در فرآیند لیتوگرافی، تغییر ۰.۵ درجه سانتیگراد در دمای حرارت دادن فوتورزیست، میتواند باعث تغییر ضخامت خطوط روی ویفر شود؛ و این موضوع منجر به از بین رفتن مقادیر زیادی از محصولات تولید شده میشود. ما لامپ مورد استفاده در فرآیند لیتوگرافی را با توجه به این واقعیت طراحی کردهایم؛ از نور مادون قرمز کوتاهامواج برای ایجاد گرمای سریع و مستقیم استفاده شده تا مراحل حرارتی حیاتی به خوبی کنترل شوند.
نکات فنی مهم: لامپ در باند مادون قرمز کار میکند؛ بنابراین فوتورزیست به خوبی گرما را جذب میکند. زمان لازم برای گرم شدن کاهش مییابد، اما سطح ویفر همچنان در دمای مناسبی باقی میماند. در سراسر ویفر، یکنواختی دما در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد است؛ همچنین، با استفاده از دستگاههای اندازهگیری دما، قابلیت تکرارپذیری فرآیند نیز کنترل میشود. سازگاری با اتاقهای پاک نیز مهم است؛ مواد مورد استفاده مطابق استانداردهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ هستند، هیچ گازی از آنها خارج نمیشود، و طراحی سیستم نیز به گونهای است که از وجود ذرات در محیط جلوگیری شود. این سیستم میتواند ۲۴/۷ کار کند و نیاز به تعمیرات پیشبینیشده نیز ندارد؛ بنابراین توقفات غیرمنتظره در فرآیند تولید رخ نخواهد داد.
چرا این روش در عمل مؤثر است: در فرآیند خشک کردن ویفر، نور مادون قرمز میتواند رطوبت سطحی را بدون ایجاد فشار بر روی لایههای موجود، از بین ببرد. در فرآیند حرارت دادن، حلالها به خوبی تبخیر میشوند؛ در نتیجه چسبندگی بهتری حاصل میشود و لکههای ناخواسته کمتری ایجاد میشود. در فرآیندهای حرارت دادن شدید و التیام فوتورزیست، دمای لازم به خوبی کنترل میشود؛ این امر منجر به کنترل بهتر ضخامت خطوط روی ویفر و کاهش تعداد کارهای تکراری میشود. نتیجه این کار، بازدهی یکنواخت، زمان کمتر برای تولید، و مصرف انرژی کمتر برای هر ویفر خواهد بود؛ زیرا گرما دقیقاً به جایی که نیاز است، اعمال میشود.
نکاتی که باید در نظر گرفت: نور مادون قرمز به سرعت گرما تولید میکند؛ بنابراین کنترل گرما و وضعیت سطح ویفر اهمیت زیادی دارد. ما مجموعهای از قطعات مربوط به اتصال حرارتی را در اختیار مشتریان قرار میدهیم؛ همچنین توصیه میکنیم که دستگاه اندازهگیری دما هر سه ماه یکبار کالیبره شود تا دقت آن حفظ شود. این لامپ با پلتفرمهای استاندارد لیتوگرافی و تجهیزات اتاقهای پاک سازگار است؛ اما برای استفاده از آن، نیاز به یک مدار ولتاژ ۲۰۸ تا ۲۴۰ ولت و سیستم تخلیه گاز مناسب وجود دارد؛ زیرا پایداری دما و تعادل تخلیه گاز به این موارد بستگی دارد. لطفاً یک آزمایش کوتاه برای بررسی یکنواختی و قابلیت تکرارپذیری فرآیند انجام دهید.