Mengapa Pengeluar Cahaya IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas dalam Proses Pemprosesan Separa
Jika anda masih bergantung pada penggunaan udara panas untuk proses pemprosesan yang mendalam, anda sebenarnya membuang masa yang banyak dalam menunggu. Fikirkanlah… Udara merupakan pengalir haba yang sangat teruk. Anda akan membuang banyak tenaga hanya untuk memanaskan udara tersebut, sebelum haba itu dapat sampai ke permukaan wafer anda. Ini merupakan proses yang lambat.
Pengeluar cahaya IR pula mengubah keadaan ini. Ia mengelakkan penggunaan udara sebagai pengalir haba, dan sebaliknya menggunakan tenaga secara langsung ke permukaan substrat tersebut.
Rahsia Penggunaan Penutup Ceramik
Ketika berhadapan dengan suhu yang tinggi seperti ini, bahagian di mana kabel elektrik bersentuhan dengan tiub kuarsa akan menjadi bermasalah. Jika tidak berhati-hati, kebocoran haba boleh merosakkan komponen peralatan atau kabel-kabel tersebut. Ini bukanlah situasi yang baik.
Itulah sebabnya kami menggunakan penutup ceramik. Penutup ini berfungsi sebagai pelindung, memberikan insulasi yang diperlukan agar suhu tetap stabil. Dengan cara ini, haba akan kekal di tempat yang sepatutnya—di permukaan pengeluar cahaya IR—dan jauh dari sambungan kabel.
Kelajuan dan Ruang Simpanan
Perbezaan kelajuan antara kedua-dua kaedah ini sangat ketara. Sistem IR dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa saat sahaja. Sedangkan penggunaan udara panas memerlukan masa yang lama untuk mencapai suhu yang sama. Bagi mereka yang menggunakan sistem ini, ini bermakna masa yang diperlukan untuk memulakan proses menjadi lebih singkat, dan proses pemprosesan juga akan berjalan lebih cepat.
Selain itu, ruang yang diperlukan juga berkurangan. Anda tidak perlu lagi menggunakan penghawa dingin yang besar atau saluran udara yang rumit. Kami merancang sistem ini untuk memberikan kepadatan tenaga yang tinggi, supaya haba dapat dialokasikan tepat ke tempat yang diperlukan. Tidak perlu lagi membuang tenaga untuk memanaskan seluruh bilik hanya untuk memanaskan satu titik sahaja.
Kelemahan (Kerana Tiada Yang Sempurna)
Saya tidak akan katakan bahawa penggunaan IR merupakan penyelesaian yang sempurna. Ada beberapa perkara yang perlu diberi perhatian. Memandangkan radiasi yang dihasilkan sangat kuat, reflektor yang digunakan perlu disusun dengan tepat. Jika reflektor tersebut tidak disusun dengan betul atau rosak, haba yang dihasilkan tidak akan sampai ke permukaan wafer.
Selain itu, kerana peningkatan suhu berlaku dengan sangat cepat, ini akan memberi tekanan yang besar pada sambungan antara kuarsa dan ceramik. Anda tidak boleh meningkatkan suhu secara tiba-tiba; anda perlu mengawal kadar peningkatan suhu tersebut. Jika tidak, ia boleh menyebabkan kerosakan pada peralatan.