Mengurangkan Pelepasan Karbon dalam Proses Pembuatan Semikonduktor Menggunakan Pemanas IR Beroperasi dalam Keadaan Vakum
Jika anda pernah bekerja di kilang pembuatan semikonduktor, pasti anda tahu betapa sukarnya tugas tersebut. Anda memerlukan kawalan suhu yang tepat, tetapi ia harus dilakukan dalam keadaan vakum agar oksidasi dan kotoran tidak merosakkan wafer tersebut. Kebanyakan orang masih menggunakan pemanas konvensional, tetapi kami telah menemukan cara yang lebih baik: pemanas IR yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum.
Ia merupakan penyelesaian yang mudah, namun ia dapat membantu mengurangkan kos tenaga dan jejak karbon yang dihasilkan.
Prinsip fizik di sebaliknya (tanpa penjelasan teoretikal yang rumit)
Dalam keadaan vakum, proses konveksi akan hilang sepenuhnya. Yang tinggal hanyalah radiasi dan konduksi. Kami merancang lampu IR sedemikian rupa agar ia dapat memanaskan wafer secara langsung. Dengan cara ini, tenaga yang digunakan tidak disia-siakan untuk memanaskan dinding ruang vakum, seolah-olah kita cuba memanaskan seluruh rumah hanya untuk memanaskan secawan kopi.
Oleh kerana dinding ruang vakum tetap sejuk, komponen penyejuk tidak perlu bekerja keras. Ini seterusnya menjimatkan banyak tenaga.
Komponen yang digunakan
Kami menggunakan kuarsa berkualiti tinggi serta filamen khusus. Jika terdapat sebarang kotoran dalam lampu tersebut, ia akan merosakkan vakum dan mengurangkan kualiti wafer yang dihasilkan. Itu merupakan situasi yang sangat buruk yang tidak ingin dialami oleh sesiapa pun.
Saat memilih komponen ini, pastikan anda memperhatikan tahap vakum serta kecepatan yang diperlukan untuk mencapai suhu yang diinginkan.
Namun, kelebihan sebenarnya adalah kelajuan. Pemanas seramik biasa memerlukan masa yang lama untuk mencapai suhu yang diinginkan. Sebaliknya, lampu IR dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa saat sahaja. Ini bermakna anda tidak perlu menunggu lama untuk mesin berfungsi sepenuhnya.
Kompromi yang perlu diterima
Saya tidak akan katakan bahawa ini merupakan penyelesaian ajaib. Pemanasan IR berkepadatan tinggi mempunyai kelemahannya sendiri. Gelombang IR yang pendek bersifat sangat intensif. Jika wafer berada sedikit pun di luar posisi yang tepat, akan timbul titik panas di permukaan wafer. Untuk mengelakkan perkara ini, anda memerlukan pengawal PID yang efektif serta alat pengukur suhu yang boleh dipercayai untuk memastikan suhu tetap stabil.
Selain itu, pastikan bekalan kuasa yang digunakan stabil. Jika terdapat lonjakan voltan, filamen akan rosak. Gunakan kabel berkekuatan tinggi agar insulasi tidak rosak, dan begitu juga dengan komponen lainnya.