Op de productieafdeling kan een verschil van 0,5°C in de temperatuur tijdens het verhitten van de fotoresist ertoe leiden dat de breedte van de lijnen enkele nanometers verandert. Hierdoor moet veel materiaal worden weggegooid. We hebben onze lithografielamp ontworpen om rekening te houden met deze situatie: hij maakt gebruik van kortegolfdicht infraroodlicht om snel en effectief warmte over te dragen, zodat de cruciale thermische processen stabiel blijven.
Wat technisch gezien belangrijk is: De lamp werkt in het nabije infraroodgebied, zodat de fotoresist de warmte efficiënt kan opnemen. Hierdoor neemt de tijd die nodig is om de temperatuur te verhogen af, terwijl het substraat toch minimaal wordt belast. Op het oppervlak van de wafer blijft de uniformiteit rond de ±0,1°C, en dankzij de nauwkeurige temperatuurmetingen kan de kwaliteit van het product behouden blijven. De compatibiliteit met schone ruimtes mag ook niet worden verwaarloosd: materialen die voldoen aan de standaarden van klasse 1–100, nul uitstoot van gassen, en een ontwerp dat vuil tegenhoudt, zorgen ervoor dat de kwaliteit op peil blijft. Het systeem kan 24/7 draaien, met regelmatige onderhoudsintervallen, zodat er geen onverwachte stilstand optreedt.
Waarom het in de praktijk werkt: Bij het drogen van de wafer wordt het vocht op het oppervlak verwijderd zonder dat de lagen op het oppervlak beschadigen. Tijdens het zachte verhitten verdampen de oplosmiddelen efficiënt – dit zorgt voor betere hechting en minder vuil. Tijdens het harde verhitten en het drogen van de fotoresist wordt de temperatuur nauwkeurig geregeld. Dit zorgt voor betere controle over de dikte van de lagen en minder herwerkzaamheden. Het resultaat is een consistente kwaliteit, kortere cyclustijden en minder energieverbruik per wafer, omdat de warmte precies daar terechtkomt waar het nodig is.
Wat je in gedachten moet houden: Nabije infraroodlicht zorgt voor snelle verwarming. Daarom is het belangrijk dat de thermische overdracht en de conditie van het substraat goed zijn. We leveren een speciaal ontworpen thermisch interface-kit, en we raden aan om de pyrometer viermaal per jaar te kalibreren om de nauwkeurigheid te behouden. De lamp past op standaard lithografieplatformen en apparatuur in schone ruimtes. Echter, voor een goede integratie is een aparte stroomvoorziening van 208–240 V nodig, evenals een goed georganiseerd afvoersysteem. Temperatuurstabiliteit en een goed afvoersysteem zijn hierbij belangrijk. Plan voor een korte testperiode, zodat je de uniformiteit en de herhaalbaarheid van het proces kunt controleren.