在300mm线上的湿晶圆
放置的湿晶圆意味着生产线停滞。残留的水分会在光刻之前导致条纹、颗粒和良率损失。我们在冲洗后构建了一个快速干燥模块，将冲洗到干燥的交接转变为一个受控的热步骤，而不是一次盲目的尝试。
底层原理
我们在石英-卤素设置中使用短波和中波红外线，快速释放能量，同时保持光谱紧凑，以避免曝光光刻胶。晶圆上的温度均匀性保持在±0.1°C之内，换班间的重复性保持在±0.2°C之内。灯模块符合Class 1–100的洁净室标准，工具级别验证无颗粒生成。输出在5000小时以上保持稳定在1%以内，因此您可以全天候运行并在不产生意外的情况下进行维护。
为何它能紧贴地面
冲洗后，晶圆进入一个定义的热场，快速均匀地蒸发表面水分。最终得到一个干燥、无残留的表面，准备进行软烘烤或硬烘烤—没有热过冲。您缩短了湿到干的过渡，减少了残留缺陷，并通过保护光刻胶的热预算来增强关键尺寸控制。脉冲控制和快速升温在不牺牲性能的情况下降低了待机功率。
您需要正确处理的事
安装的关键在于将灯具的足迹与轨道末端执行器匹配，并将光束轮廓与晶圆边缘排除区域对齐。根据溶剂化学和冲洗温度调节模块，以避免出现差异蒸发。进行短时间的调试批次以调整停留时间和强度，并保持过程在光刻胶的热窗口内。