<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Vlhkost on Smart Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://smart-ir-heater.com/cs/tags/vlhkost/</link>
		<description>Recent content in Vlhkost on Smart Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://smart-ir-heater.com/cs/tags/vlhkost/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Svítilna pro odstranění vlhkosti z waferů</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/cs/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Svítilna pro odstranění vlhkosti z waferů&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V prostoru výroby může zadržená vlhkost – ať už v &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;fotorezistu&lt;/a&gt; nebo přímo na povrchu waferu – po expozici poškodit klíčové rozměry. Pokud tuto vlhkost neodstraníte, vzniknou nerovnosti, nečistoty a zbytky po leptání, což může zničit celé série produktů. Proto používáme žárovky na odstraňování vlhkosti z waferů – ty odstraňují variability spojené s mokrými wafery.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co je důležité uvnitř zařízení&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Tuto žárovku jsme navrhli tak, aby poskytovala rychlou a přesnou tepelnou reakci. Halogenové prvky zajistí vysokou intenzitu světla s krátkými vlnovými délkami, takže se povrch rychle ohřeje. Křemenný obal zase zajišťuje čistotu a stabilitu, dokonce i při nepřetržitém provozu. Výsledkem je tepelná rovnoměrnost na úrovni waferu v rozmezí ±0,1 °C v celé aktivní oblasti, což umožňuje opakované použití procesů Soft Bake a Hard Bake. Kontrola teploty je dostatečně přesná na to, aby byl chráněn tepelný stav fotorezistu. Výstupní intenzita je nastavena tak, aby došlo k rychlé dehydrataci bez nadměrného zahřátí.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
