Úvod Tento infračervený ohřívač jsme vyvinuli z jednoho jednoduchého důvodu: abychom vám poskytli efektivní náhradu za originální prvky používané v...

Proč je ten drobný rozdíl 0,1 °C opravdu důležitý při oxidaci destiček Oxidace destiček je jeden z těch procesů, u kterých nelze šetřit. Teplota musí...

V prostoru výroby může zadržená vlhkost – ať už v fotorezistu nebo přímo na povrchu waferu – po expozici poškodit klíčové rozměry. Pokud tuto vlhkost...

V provozu továrny stačí půl stupně odchylky teploty během procesu zahřívání, aby profil fotorezistu přešel z normálního stavu do stavu nevhodného k...

V průběhu procesu vychází wafer z nádrže na oplachování a začíná tikat časovač. Veškerá zbývající vlhkost se projevuje jako nerovnosti na povrchu...