Lampe zum Entfernen von Feuchtigkeit aus Wafern

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Auf der Fertigungsfläche kann feuchte Luft – sei sie nun im Fotolack oder direkt auf der Wafernoberfläche vorhanden – nach der Belichtung zu Problemen mit den entscheidenden Abmessungen führen. Wenn man diese Feuchtigkeit nicht beseitigt, entstehen Ablagerungen und Rückstände, die ganze Chargen unbrauchbar machen können. Deshalb nutzen wir Lampen zur Entfernung der Feuchtigkeit von den Wafern – sie beseitigen somit die Unschärfe, die durch feuchte Wafern entsteht.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben diese Lampe so konzipiert, dass sie eine schnelle und präzise Temperaturregulierung ermöglicht. Die Halogenelemente sorgen für eine hohe Intensität und kurzwelliges Licht, sodass die Oberfläche schnell erhitzt wird. Der Quarzkern hält die Bedingungen rein und stabil – auch bei kontinuierlicher Nutzung. Das Ergebnis ist eine Temperaturhomogenität auf der Wafernoberfläche von ±0,1 °C innerhalb der aktiven Zone. Dadurch sind die Prozesse „Soft Bake“ und „Hard Bake“ wiederholbar. Die Temperaturkontrolle ist so präzise, dass der Fotolack vor Schäden geschützt wird. Zudem ist die Leistung der Lampe so eingestellt, dass die Feuchtigkeit schnell entfernt wird, ohne dass es zu Überschreitungen kommt.

Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit aus Wafern

Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800

Während des Prozesses kommt die Wafer aus dem Spülvorgang heraus – und die Uhr beginnt zu ticken. Jegliche verbleibende Feuchtigkeit führt dazu, dass der Photoresist ungleichmäßig trocknet oder sogar Brückenbildung auftritt. Das ist etwas, was man auf keinen Fall akzeptieren kann. Man braucht daher einen Schritt, bei dem das Wasser schnell entfernt wird – ohne dass dadurch die thermische Leistung beeinträchtigt wird oder zusätzliche Partikel entstehen.

Was wirklich wichtig ist
Wir haben unsere Trocknungsanlage so konstruiert, dass sie kurzwelliges Infrarotlicht in einem Quarzkörper verwendet. Die Reflexionsgeometrie sorgt dafür, dass die Wärme auf dem Film selbst ankommt, nicht auf dem Trägermaterial. Dadurch bleibt die Temperatur im beleuchteten Bereich innerhalb der zulässigen Grenzen – sowohl während des sanften als auch des intensiven Trocknungsprozesses. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist selbstverständlich gegeben: Die Verwendung in Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch Hardware mit geringer Gasemission sowie dicht verschlossene Anschlüsse gewährleistet. Die Reproduzierbarkeit liegt bei weniger als 1 % über Tausenden von Zyklen. Zudem reagiert das System in Millisekunden auf Änderungen, damit die kritischen Abmessungen stabil bleiben.

Feuchtigkeit on Smart Infrared Heating Systems

Lampe zum Entfernen von Feuchtigkeit aus Wafern

Lampe zur Entfernung von Feuchtigkeit aus Wafern