Ofen on Smart Infrared Heating Systems

Oberflächentemperierer für Reinraumöfen

Tue, 28 Jul 2026 02:32:29 +0800

Denken Sie an einen herkömmlichen Konvektionsofen – er erwärmt alles: die Luft, die Regale und sogar die Außenwände. In einem Halbleiterreinraum ist das ein Problem. Die Mitarbeiter könnten sich verbrühen, wenn sie nur gegen den Ofen stoßen. Zudem wird viel Energie verschwendet, um Metallwände zu erhitzen, die gar nicht so heiß sein müssen.

Wir haben eine bessere Lösung gefunden: Richtungsabhängige Infrarotbeleuchtung. Anstatt die Luft zu erhitzen, senden die Infrarotlampen Strahlung in gerader Linie aus – direkt auf die Werkstücke. Durch den Einsatz von Reflektoren kann man die Wärme genau dorthin lenken, wo sie benötigt wird. So bleibt das Zentrum des Ofens extrem heiß, während die Wände kühl bleiben.

Heizelement des Wafer Trocknungsofens

Wed, 08 Jul 2026 04:54:54 +0800

Einführung
Wir haben dieses Infrarotheizelement aus einem einfachen Grund entwickelt: Um Ihnen eine effektive Alternative zu den Originalkomponenten der Hersteller in den Trocknungsöfen für Halbleiterwafern zu bieten. Wenn Sie es leid sind, hohe Preise für internationale Geräte zu zahlen und stattdessen eine Lösung suchen, die denselben Leistungsstandards entspricht, dann ist dieses Gerät genau das Richtige. Es wurde so konstruiert, dass es die nötige Wärme liefert, um die Wafers präzise und schnell zu trocknen – ohne dabei hohe Kosten zu verursachen.

Lampe für die Halbleiterlithografieöfen

Thu, 25 Jun 2026 00:58:52 +0800

In der Fertigungshalle kann eine Abweichung von 0,5 °C bei der Erhitzung des Photoresists dazu führen, dass die Breite der Linien um Nanometer verschoben wird – und das bedeutet, dass viel Material verschwendet werden muss. Wir haben unseren Lithografieofen entsprechend dieser Realität konstruiert: Dabei werden kurzwellige Infrarotstrahlen verwendet, um eine schnelle, direkte Wärmezufuhr zu gewährleisten – dadurch bleiben die kritischen Temperaturbedingungen stabil.

Was technisch wichtig ist:
Die Lampe arbeitet im Nahinfrarotbereich, sodass der Photoresist die Wärme effizient aufnehmen kann. Die Zeit bis zur Erreichen der gewünschten Temperatur verkürzt sich, doch das Substrat bleibt dabei thermisch angenehm behandelt. Auf der Waferoberfläche bleibt die Homogenität bei ±0,1 °C – und die Wiederholgenauigkeit wird durch eine geschlossene Pyrometrie direkt am Prozessort gewährleistet. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist ebenfalls entscheidend: Materialien der Klasse 1–100, keine Gasemissionen sowie ein design, das Partikel vermeidet, sorgen dafür, dass die Werte im gewünschten Bereich bleiben. Das System läuft 24/7 – mit vorhersehbaren Wartungsintervallen – damit es keine unplanmäßigen Stillstände gibt.

SK15 Infrarotlampe für Wafer Ofen

Tue, 09 Jun 2026 00:42:53 +0800

Auf dem Fertigungsboden wissen Sie, wie es läuft: eine Drift von 0,3 °C während des Photoresist-Backens reicht aus, um eine gesamte Charge zu verwerfen. Die SK15-Infrarotlampe für Wafer-Öfen wurde entwickelt, um diese Drift dort zu stoppen, wo sie beginnt. Sie greift direkt den thermischen Aufwand an, sodass Softbake- und Hardbake-Profile stabil bleiben und kritische Abmessungen kontrolliert werden.

Technisch relevant

Die SK15 setzt auf kurzwellige NIR-Strahlung, wodurch eine schnelle, volumetrische Erwärmung mit geringer thermischer Trägheit erreicht wird. Über die Wafer-Ebene liegt die Uniformität bei ±0,1 °C, und die Reproduzierbarkeit ist schussweise gegeben. Der Emitter bleibt sauber – keine Partikelbildung, kein Ausgasen – somit werden die Anforderungen der Reinraumklasse 1–100 eingehalten. Die Leistung bleibt über 5.000+ Stunden stabil, mit einem Abfall von unter 5 %, und die Lampenabmessungen entsprechen den Standard-Ofenanschlüssen mit einer Befestigung, die sicher und reproduzierbar ist.