<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>رطوبت on Smart Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://smart-ir-heater.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in رطوبت on Smart Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://smart-ir-heater.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ گرمایشی برای حذف رطوبت ویفر</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;لامپ گرمایشی برای حذف رطوبت ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در کارخانه‌های تولید، رطوبت موجود در فوتورزیست یا روی سطح ویفر، پس از قرار گرفتن در معرض نور، می‌تواند باعث اختلال در ابعاد حیاتی ویفر شود. اگر این رطوبت را از بین نبریم، مشکلاتی مانند لکه‌ها و باقی‌مانده‌های حاصل از فرآیند حفاری رخ خواهد داد؛ این مشکلات می‌توانند باعث از بین رفتن کل محموله ویفرها شوند. به همین دلیل، از لامپ‌های گرمایشی برای حذف رطوبت از ویفر استفاده می‌شود؛ این لامپ‌ها باعث کاهش نوسانات ناشی از وجود رطوبت در ویفر می‌شوند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>لامپ برداشتن رطوبت ویفر</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;لامپ برداشتن رطوبت ویفر&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در مرحله پردازش، ویفر از آب خارج می‌شود و زمان شروع فرآیند اندازه‌گیری آغاز می‌گردد. هرگونه رطوبت باقی‌مانده، منجر به ایجاد مشکلاتی مانند اتصالات نامناسب بین قسمت‌های مختلف ویفر می‌شود؛ این مشکلات را نمی‌توان تحمل کرد. لازم است که مرحله خشک‌سازی به گونه‌ای انجام شود که آب به سرعت از روی ویفر حذف شود؛ بدون اینکه باعث افزایش دما یا ایجاد ذرات در ویفر شود.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;چه چیزهایی اهمیت دارد؟&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ما لامپ حذف رطوبت را با استفاده از امواج مادون قرمز کوتاه، در یک پوشش کوارتزی، ساخته‌ایم؛ همچنین، استفاده از ساختارهای بازتابنده، باعث می‌شود که گرما فقط روی فیلم ویفر تأثیر بگذارد، نه روی بخش‌های دیگر آن. این امر باعث می‌شود که دمای فیلم در کل ناحیه تحت تأثیر قرار گرفته، در محدوده مشخص شده باقی بماند. سازگاری با محیط‌های تمیز نیز مهم است؛ عملکرد در کلاس‌های ۱ تا ۱۰۰، با استفاده از سخت‌افزارهایی که گاز کمی تولید می‌کنند، و همچنین با استفاده از اتصالات بسته، امکان‌پذیر است. تکرارپذیری خروجی نیز در حد ۱٪ در طول هزاران چرخه حفظ می‌شود؛ همچنین، سیستم می‌تواند به سرعت به تغییرات دمایی واکنش نشان دهد تا ابعاد حیاتی ویفر پایدار بمانند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
