Bouchon en céramique pour émetteur IR

Mon, 13 Jul 2026 16:22:24 +0800

Pourquoi les émetteurs infrarouges surpassent l’air chaud dans le semiprocessus
Si vous continuez à utiliser la circulation d’air chaud pour vos processus de traitement avancés, vous perdez énormément de temps en attendant que la température atteigne le niveau souhaité.
Pensez-y : l’air est un mauvais conducteur de chaleur. Vous gaspillez donc beaucoup d’énergie rien que pour chauffer cet air avant même que cette chaleur n’atteigne votre wafer. C’est très lent.
Les émetteurs infrarouges changent complètement la donne. Ils évitent complètement ce médiateur et dirigent directement l’énergie vers le substrat.

Panneau chauffant infrarouge en céramique

Wed, 10 Jun 2026 01:21:09 +0800

Sur le plancher de fabrication, l’uniformité de la température n’est pas un indicateur que l’on recherche—c’est la limite fine entre fabriquer la puce et générer des rebuts. Une variation de 1°C sur la surface du wafer pendant le bain de photoresist peut décaler suffisamment les largeurs de lignes pour que l’erreur se répercute jusque dans le test final. Nous avons conçu notre panneau chauffant en céramique infrarouge pour éliminer ce risque.

Ce qui compte, techniquement
Le panneau utilise des émetteurs infrarouges céramiques à réponse courte onde, ce qui permet un chauffage rapide et direct sans décalage thermique important. Sur toute la surface active, nous maintenons une uniformité au niveau wafer à ±0,1°C, et la répétabilité du point de consigne reste dans la même fourchette. La plaque frontale est conçue pour un usage en salle blanche de classe 1–100, avec des matériaux à faible émission de gaz et une construction hermétique qui élimine la génération de particules à l’état stable. La commande est en boucle fermée, et une compensation multi-zone aplanit les gradients thermiques générés par la géométrie de l’outil.

Céramique on Smart Infrared Heating Systems

Bouchon en céramique pour émetteur IR

Panneau chauffant infrarouge en céramique