Panneau chauffant infrarouge en céramique

Wed, 10 Jun 2026 01:21:09 +0800

Sur le plancher de fabrication, l’uniformité de la température n’est pas un indicateur que l’on recherche—c’est la limite fine entre fabriquer la puce et générer des rebuts. Une variation de 1°C sur la surface du wafer pendant le bain de photoresist peut décaler suffisamment les largeurs de lignes pour que l’erreur se répercute jusque dans le test final. Nous avons conçu notre panneau chauffant en céramique infrarouge pour éliminer ce risque.

Ce qui compte, techniquement
Le panneau utilise des émetteurs infrarouges céramiques à réponse courte onde, ce qui permet un chauffage rapide et direct sans décalage thermique important. Sur toute la surface active, nous maintenons une uniformité au niveau wafer à ±0,1°C, et la répétabilité du point de consigne reste dans la même fourchette. La plaque frontale est conçue pour un usage en salle blanche de classe 1–100, avec des matériaux à faible émission de gaz et une construction hermétique qui élimine la génération de particules à l’état stable. La commande est en boucle fermée, et une compensation multi-zone aplanit les gradients thermiques générés par la géométrie de l’outil.

Panneau on Smart Infrared Heating Systems

Panneau chauffant infrarouge en céramique