IR on Smart Infrared Heating Systems

Ujung keramik untuk pemancar IR

Mon, 13 Jul 2026 16:22:24 +0800

Mengapa Emitter IR Lebih Unggul daripada Udara Panas dalam Proses Semikonduktor

Jika Anda masih mengandalkan sistem udara panas untuk proses pengolahan yang mendalam, berarti Anda membuang-buang banyak waktu dalam menunggu proses selesai.

Pikirkanlah. Udara merupakan konduktor yang buruk. Anda akan membuang energi yang sangat banyak hanya untuk memanaskan udara tersebut, sebelum panasnya bisa mencapai wafer. Prosesnya sangat lambat.

Emitter IR mengubah persamaan ini. Emitter ini tidak menggunakan udara sebagai perantara, melainkan langsung menyalurkan energi ke permukaan substrat.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 09 Jul 2026 15:14:52 +0800

Kami membuat lampu inframerah berreflektor aluminium ini untuk digunakan di dunia industri yang membutuhkan performa yang maksimal. Saat memasang lampu inframerah berdaya tinggi, diperlukan panas yang dapat dihasilkan secara cepat, dan keselamatan listrik juga perlu diperhatikan dengan serius. Oleh karena itu, sebelum setiap lampu meninggalkan pabrik kami, lampu tersebut akan menjalani pengujian ketahanan dielektrik dan resistansi isolasi secara menyeluruh. Setiap lampu, tanpa terkecuali.

Daya, tegangan, dan ukuran: Hal-hal penting yang perlu diperhatikan
Pada dasarnya, lampu-lampu ini dirancang untuk menghasilkan daya yang besar dalam ruang yang kecil. Lampu-lampu ini beroperasi pada tegangan tinggi, sehingga responsnya cepat dan suhunya pun naik dengan cepat. Panjang tabung dan posisi reflektor harus dikontrol dengan ketat, agar panasnya tetap terfokus di tempat yang dibutuhkan, bukan tersebar ke bagian lainnya.

Sensor IR berkeakuratan tinggi untuk wafer

Fri, 03 Jul 2026 02:33:40 +0800

Di lini produksi litografi, proses “bake” bukanlah sekadar proses pemanasan saja. Itu merupakan tahap yang penting dalam proses pembuatan chip. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses “soft bake” dapat mengubah nilai Tg dari bahan fotoresist. Selain itu, ketidakteraturan suhu selama proses “hard bake” juga dapat menyebabkan masalah seperti gangguan pada bentuk tepi dan lebar garis pada chip yang dihasilkan. Oleh karena itu, diperlukan kontrol suhu yang akurat, bukan sekadar perkiraan semata.

Yang penting secara teknis: Kami menggunakan sensor IR yang sangat presisi untuk memastikan bahwa suhu permukaan wafer tetap stabil dalam rentang ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya pun mencapai ±0,05°C antar batch produksi. Sensor ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan mampu menghasilkan sinyal NIR yang stabil tanpa adanya titik panas. Emitter berbahan kuarsa/halogen digunakan untuk menghasilkan sinyal NIR yang stabil, tanpa adanya gangguan.