Ujung keramik untuk pemancar IR

Mon, 13 Jul 2026 16:22:24 +0800

Mengapa Emitter IR Lebih Unggul daripada Udara Panas dalam Proses Semikonduktor

Jika Anda masih mengandalkan sistem udara panas untuk proses pengolahan yang mendalam, berarti Anda membuang-buang banyak waktu dalam menunggu proses selesai.

Pikirkanlah. Udara merupakan konduktor yang buruk. Anda akan membuang energi yang sangat banyak hanya untuk memanaskan udara tersebut, sebelum panasnya bisa mencapai wafer. Prosesnya sangat lambat.

Emitter IR mengubah persamaan ini. Emitter ini tidak menggunakan udara sebagai perantara, melainkan langsung menyalurkan energi ke permukaan substrat.

Panel pemanas inframerah keramik

Wed, 10 Jun 2026 01:21:10 +0800

Di lantai fab, uniformitas suhu bukanlah metrik yang hanya dikejar—itu adalah garis tipis antara menghasilkan die dan menghasilkan limbah. Perubahan suhu sebesar 1°C di seluruh wafer selama proses pemanggangan photoresist dapat menggeser lebar garis cukup jauh sehingga kesalahan tersebut terbawa hingga pengujian akhir. Kami merancang panel pemanas infrared keramik untuk menghilangkan risiko tersebut.

Apa yang penting secara teknis
Panel ini menggunakan emitter infrared keramik dengan respons gelombang pendek, sehingga menghasilkan pemanasan cepat yang langsung tanpa penundaan termal yang signifikan. Di seluruh permukaan aktif, kami mempertahankan uniformitas tingkat wafer dalam rentang ±0,1°C, dan kemampuan pengulangan setpoint berada dalam kisaran yang sama. Faceplate dirancang untuk penggunaan ruang bersih Kelas 1–100, dengan bahan yang rendah pelepasan gas dan konstruksi tertutup yang menjaga partikel tetap nol selama kondisi stabil. Kontrolnya bersifat loop tertutup, dan kompensasi multi-zona meratakan gradien termal yang biasanya muncul akibat geometri peralatan.

Keramik on Smart Infrared Heating Systems

Ujung keramik untuk pemancar IR

Mengapa Emitter IR Lebih Unggul daripada Udara Panas dalam Proses Semikonduktor

Panel pemanas inframerah keramik