Lampu oven untuk proses litografi semikonduktor

Thu, 25 Jun 2026 00:58:52 +0800

Di fasilitas produksi, perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist dapat menyebabkan perubahan lebar garis pada permukaan wafer hingga beberapa nanometer. Itulah mengapa banyak produk yang harus dibuang akibat hal ini. Kami merancang lampu untuk proses litografi ini dengan menggunakan gelombang inframerah pendek, sehingga panas yang dihasilkan lebih efektif dan stabil, sehingga langkah-langkah termal yang kritis tetap terjaga stabilitasnya.

Yang penting secara teknis:
Lampu ini beroperasi pada rentang gelombang inframerah dekat, sehingga fotoresist dapat menyerap panas dengan efisien. Waktu pemanasan menjadi lebih singkat, namun suhu permukaan wafer tetap stabil. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer mencapai ±0,1°C, dan keandalan proses dipastikan melalui penggunaan alat pengukur suhu berbasis sistem kontrol tertutup. Kompatibilitas dengan lingkungan ruang bersih juga sangat penting: bahan-bahan yang digunakan memenuhi standar kelas 1–100, tidak ada emisi gas, dan desainnya dirancang agar partikel-partikel tidak masuk ke dalam sistem. Sistem ini dapat beroperasi 24/7, dengan jadwal pemeliharaan yang terencana, sehingga tidak terjadi gangguan operasional yang tak terduga.

Litografi on Smart Infrared Heating Systems

Lampu oven untuk proses litografi semikonduktor