Riscaldatore CVD (Deposizione da vapore chimico)

Mon, 22 Jun 2026 18:38:23 +0800

Durante il processo di deposizione, lo scheduler non aspetterà che il riscaldatore raggiunga la temperatura desiderata. Una camera CVD richiede una stabilità termica immediata, non appena lo schema di lavoro lo richiede. Anche un solo grado di deviazione dalla temperatura impostata può causare variazioni nella spessore dello strato depositato, cambiamenti nelle sollecitazioni meccaniche e riduzione della resa del processo.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Abbiamo progettato questo riscaldatore CVD in modo che funzioni sempre allo stesso modo. L’array di lampade a quarzo-alogeno reagisce rapidamente, garantendo così un’omogeneità della temperatura entro ±0,1°C su tutta la superficie del suscettore. Il sistema di controllo mantiene la temperatura impostata senza alcuna deviazione, evitando così sprechi energetici sia nella camera che nello strato depositato.

(Deposizione) on Smart Infrared Heating Systems

Riscaldatore CVD (Deposizione da vapore chimico)