Lampa per forno di litografia dei semiconduttori

Thu, 25 Jun 2026 00:58:52 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist può causare cambiamenti nel spessore delle linee di tracciato, in termini di nanometri. Ecco perché molti prodotti vengono scartati. Abbiamo progettato la nostra lampada per la litografia tenendo conto di questa realtà: utilizza luce NIR a breve lunghezza d’onda per fornire calore in modo rapido e diretto, mantenendo così stabili i parametri termici critici.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
La lampada opera nella fascia dell’infrarosso vicino, quindi il fotoresist assorbe efficacemente il calore. Il tempo necessario per raggiungere la temperatura desiderata diminuisce, ma il substrato rimane comunque protetto da eventuali stress termici. La uniformità sulla superficie del wafer è compresa tra ±0,1°C, mentre la ripetibilità dei risultati è garantita grazie alla misurazione precisa della temperatura effettuata direttamente durante il processo. La compatibilità con le ambienti di produzione puliti non è un aspetto secondario: i materiali utilizzati sono conformi alle norme di Classe 1–100, non c’è emissione di gas, e la struttura della lampada riduce al minimo la presenza di particelle. Il sistema può funzionare 24/7, con intervalli di manutenzione prevedibili, evitando così tempi di inattività imprevisti.

Litografia on Smart Infrared Heating Systems

Lampa per forno di litografia dei semiconduttori