Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer

Sun, 05 Jul 2026 04:53:10 +0800

Perché quel piccolissimo valore di 0,1°C è davvero importante nell’ossidazione dei wafer
L’ossidazione dei wafer è uno di quei processi in cui non si può trascurare alcun dettaglio. Il calore deve essere distribuito uniformemente in tutta la camera di ossidazione. Se l’elemento riscaldante non riesce a mantenere la temperatura entro i 0,1°C, ne risulta uno spessore dell’ossido irregolare, con conseguenti problemi legati al tasso di produzione.
Ecco perché abbiamo progettato i nostri elementi riscaldanti a base di aggeggi halogenici, in modo da garantire tale precisione. Si ottiene così un’eccellente prestazione termica, senza dover pagare prezzi elevati. È una soluzione efficace e ben progettata, perfetta per svolgere il proprio compito.

Ossidazione on Smart Infrared Heating Systems

Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer