Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Nelle linee di produzione, l’umidità presente nel fotoresist o sulla superficie stessa del wafer può danneggiarne le dimensioni critiche dopo l’esposizione. Se non si elimina quest’umidità, si rischiano problemi legati alla formazione di residui e sporco, che possono rendere inutilizzabili intere parti prodotte. Ecco perché utilizziamo delle lampade per la rimozione dell’umidità dal wafer: esse eliminano le variazioni dovute all’umidità presente sul wafer stesso.

Ciò che è importante Abbiamo progettato questa lampada per garantire una risposta termica rapida e precisa. Gli elementi allogenici garantiscono un’intensità luminosa elevata e lunghezze d’onda corte, permettendo così al wafer di riscaldarsi rapidamente. L’involucro di quarzo, invece, mantiene le condizioni ambientali stabili, anche durante il funzionamento continuo. Il risultato è un’omogeneità termica del wafer entro ±0,1°C nella zona attiva, il che permette di ottenere risultati affidabili durante i processi di essiccazione. Il controllo della temperatura è abbastanza preciso da proteggere il fotoresist, mentre l’intensità luminosa è regolata in modo da permettere una disidratazione rapida senza superare i limiti consentiti.

Scaldatore on Smart Infrared Heating Systems

Lampada riscaldante per la rimozione dell umidità dai wafer