<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>水分 on Smart Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://smart-ir-heater.com/ja/tags/%E6%B0%B4%E5%88%86/</link>
		<description>Recent content in 水分 on Smart Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://smart-ir-heater.com/ja/tags/%E6%B0%B4%E5%88%86/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ水分除去用ヒーターランプ</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;ウェーハ水分除去用ヒーターランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;製造現場では、フォトレジスト内やウェーハ表面に残った水分が、露光後にウェーハの寸法精度を悪化させてしまいます。その水分を除去しなければ、不良品が生じ、最悪の場合は大量のウェーハが廃棄されてしまいます。だからこそ、ウェーハ内の水分を除去するためのヒーターランプが必要なのです。これにより、湿潤したウェーハによって生じるばらつきを解消できます。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>ウェーハ用脱水ランプ</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/ja/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;ウェーハ用脱水ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ライン上では、ウェーハが洗浄工程を経て出てきます。その時点からタイマーが動き始めます。残っている&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;水分&lt;/a&gt;は、レジストの不均一な硬化やブリッジ現象として現れ、それによって歩留まりが低下します。したがって、熱負荷を増やしたり、粒子が混入したりすることなく、迅速に水分を除去する必要があります。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;内部で重要なのは何か&lt;/strong&gt;&#xA;私たちが開発した水分除去ランプは、石英製のケース内に短波長の赤外線を使用しており、反射器の形状によって熱がフィルムに集中し、キャリアには当たらないようになっています。これにより、照射エリア全体で±0.1℃の温度均一性が保たれ、ソフトベイクやハードベイクの際にもレジストの温度が規定範囲内に収まります。クリーンルームでの使用に関しても問題ありません。クラス1～100の環境下での稼働が可能で、低ガス放出性能を持つハードウェアや密閉された接続部、安定した粒子数を実現しています。何千回ものサイクルを繰り返しても出力の再現性は1％以下であり、システムはミリ&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;秒単位&lt;/a&gt;で設定値を追跡し、重要な寸法を安定させます。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
