IR on Smart Infrared Heating Systems

Hujung gentian seramik untuk pemancar IR

Mon, 13 Jul 2026 16:22:24 +0800

Mengapa Pengeluar Cahaya IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas dalam Proses Pemprosesan Separa

Jika anda masih bergantung pada penggunaan udara panas untuk proses pemprosesan yang mendalam, anda sebenarnya membuang masa yang banyak dalam menunggu. Fikirkanlah… Udara merupakan pengalir haba yang sangat teruk. Anda akan membuang banyak tenaga hanya untuk memanaskan udara tersebut, sebelum haba itu dapat sampai ke permukaan wafer anda. Ini merupakan proses yang lambat.

Pengeluar cahaya IR pula mengubah keadaan ini. Ia mengelakkan penggunaan udara sebagai pengalir haba, dan sebaliknya menggunakan tenaga secara langsung ke permukaan substrat tersebut.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 09 Jul 2026 15:14:52 +0800

Kami membina lampu inframerah berreflektor aluminium ini untuk digunakan dalam keadaan sebenar – iaitu dalam persekitaran industri yang memerlukan prestasi yang tinggi. Apabila menggunakan lampu inframerah berkuasa tinggi, kita memerlukan haba yang dapat dihasilkan dengan cepat, dan keselamatan elektrik juga perlu diberi perhatian serius. Oleh itu, sebelum setiap lampu keluar dari bengkel kami, ia akan melalui ujian ketebalan dielektrik dan rintangan isolasi yang ketat. Setiap satu daripadanya.

Kuasa, Voltan, dan Saiz: Apa yang Penting
Pada dasarnya, lampu-lampu ini direka untuk menghasilkan kuasa yang besar dalam ruang yang kecil. Ia beroperasi pada voltan yang tinggi, jadi ia dapat bertindak balas dengan cepat dan menghasilkan haba yang banyak. Panjang tiub dan orientasi reflektor pula dikawal dengan ketat, agar haba dapat dialirkan ke tempat yang diperlukan sahaja, tanpa tersebar ke bahagian lain.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Fri, 03 Jul 2026 02:33:40 +0800

Dalam proses litografi, proses pembakaran bukanlah sekadar langkah pemanasan sahaja; ia merupakan sebahagian daripada proses penghasilan produk tersebut. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan mengubah nilai Tg pada bahan fotoresist. Selain itu, ketidakteraturan suhu semasa proses pembakaran akan menyebabkan masalah seperti ketidakseragaman garis tepi dan lebar garis pada permukaan wafer. Oleh itu, kawalan suhu yang tepat sangat penting, bukan sesuatu yang boleh diharapkan secara rawak.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan sensor IR yang tepat untuk memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Ketepatan ini dapat dicapai dalam setiap proses pembakaran, dengan variasi yang tidak melebihi ±0.05°C antara setiap kumpulan wafer yang diproses. Sensor ini juga direka agar sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dan ia mampu menghasilkan isyarat NIR yang stabil tanpa adanya titik panas.