Mengeringkan on Smart Infrared Heating Systems

Audit tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Wed, 22 Jul 2026 01:59:52 +0800

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Semikonduktor: Mari Bincangkan Mengenai Proses Pengeringan
Sejujurnya, kilang-kilang semikonduktor merupakan pengguna tenaga yang sangat besar. Sebahagian besar tenaga yang digunakan digunakan untuk proses pengeringan wafer setelah ia diproses secara basah.

Saya lihat masih banyak kilang yang menggunakan kaedah pemanasan konvensional yang sudah ketinggalan zaman. Kaedah ini hanya memanaskan udara di sekeliling wafer, bukan wafer itu sendiri. Ini merupakan pembaziran tenaga. Jika anda ingin membina “kilang hijau”, menggunakan sistem pemanasan inframerah adalah salah satu cara termudah untuk mencapainya.

Pemanas untuk mengeringkan pakaian

Tue, 23 Jun 2026 12:34:45 +0800

Di kawasan pengeluaran atau di kawasan perkhidmatan luar yang sibuk, pakaian yang basah tidak akan menunggu sinar matahari untuk mengeringkannya. Apabila alat pengering gagal berfungsi, kerja akan menjadi perlahan, dan udara akan menjadi lembap serta sejuk. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang mendapat pensijilan CE, agar ia dapat berfungsi dengan efisien mengikut jadual yang ditetapkan. Pemanas ini memberikan haba yang cepat, sehingga pakaian dapat dikeringkan dengan lebih cepat dan orang-orang dapat merasa selesa.

Apa yang penting dalam reka bentuknya

Pemanas ini menggunakan unsur inframerah jenis kuarsa yang menghantar haba secara langsung ke arah manusia dan kain, tanpa membuang masa untuk memanaskan udara. Ini bermakna proses pengeringan berlaku lebih cepat dengan penggunaan tenaga yang lebih sedikit. Pemanas ini beroperasi pada voltan standard, sesuai digunakan dengan sistem kabel biasa, dan direka untuk berfungsi dengan stabil walaupun digunakan untuk waktu yang lama.

Wafer cepat kering selepas bilas lampu

Fri, 05 Jun 2026 01:03:31 +0800

Pada barisan 300mm, wafer basah yang dibiarkan begitu sahaja akan menyebabkan hentian barisan. Kelembapan yang tinggal akan menyebabkan garis hitam, zarah, dan kerugian hasil sebelum anda mencapai proses litografi. Kami membina modul pengeringan pantas tepat selepas pembilasan untuk menjadikan peralihan dari bilasan ke pengeringan sebagai langkah terma yang terkawal, bukan satu risiko rawak.

Apa yang penting di peringkat teknikal
Kami menggunakan inframerah gelombang pendek dan gelombang sederhana dalam konfigurasi kuarza-halogen, menghantar tenaga dengan pantas sambil mengekalkan spektrum yang ketat supaya anda tidak berisiko mendedahkan fotoresist. Keseragaman suhu di seluruh wafer kekal dalam ±0.1°C, dan kebolehulangan dari satu syif ke syif berikutnya berada dalam ±0.2°C. Modul lampu ini sesuai untuk bilik bersih Kelas 1–100, dengan pengesahan tiada penghasilan zarah pada peringkat alat. Output kekal stabil dalam lingkungan 1% selama lebih 5,000 jam, membolehkan operasi 24/7 dan perancangan penyelenggaraan tanpa kejutan.