Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Di bilik pengeluaran wafer, kelembapan yang terperangkap—sama ada dalam bahan fotoresist atau pada permukaan wafer itu sendiri— akan merosakkan dimensi penting wafer selepas proses pendedahan berlaku. Jika kelembapan tersebut tidak dikeluarkan, ia akan menyebabkan masalah seperti kotoran dan sisa-sisa kimia yang boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut. Itulah sebabnya kita menggunakan lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer; ia membantu mengurangkan variasi yang disebabkan oleh kelembapan pada wafer.

Apa yang penting di belakang tabir
Lampu ini direka untuk memberikan tindak balas termal yang cepat dan efektif. Unsur halogen digunakan untuk menghasilkan cahaya intensiti tinggi dengan gelombang pendek, sehingga permukaan wafer dapat dipanaskan dengan cepat. Selain itu, lapisan kuarsa yang digunakan memastikan keadaan permukaan wafer tetap stabil, walaupun dalam operasi berterusan. Hasilnya, suhu permukaan wafer kekal seragam dalam lingkungan ±0.1°C di kawasan aktifnya, sehingga proses Soft Bake dan Hard Bake dapat dilakukan secara konsisten. Kawalan suhu yang tepat juga membantu melindungi bahan fotoresist daripada kesan panas yang berlebihan, sementara intensiti cahaya yang dihasilkan cukup untuk membuang kelembapan tanpa menyebabkan masalah lain.

Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer

Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800

Semasa proses pengeringan, wafer dikeluarkan daripada cecair pembersih, dan masa mula berjalan. Sebarang kelembapan yang masih ada akan menyebabkan masalah seperti lapisan resist yang tidak sekata, atau gangguan lain yang sukar untuk diatasi. Oleh itu, perlu ada langkah pengeringan yang efektif untuk menghilangkan air dengan cepat—tanpa mengganggu suhu yang diperlukan atau menambah zarah-zarah yang tidak diinginkan.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan lampu penghilang kelembapan yang beroperasi menggunakan gelombang inframerah pendek, yang terletak di dalam selubung kuarza. Reka bentuk reflektornya memastikan haba disalurkan ke permukaan filem, bukannya ke bahan pembawa. Ini membolehkan suhu di kawasan yang disinari tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Dengan cara ini, suhu fotoresist tetap berada dalam julat yang ditetapkan semasa proses pengeringan. Keserasian dengan bilik bersih juga merupakan faktor penting; operasi pada tahap kelas 1–100 dapat dicapai melalui penggunaan peralatan yang menghasilkan pelepasan gas yang sedikit, sambungan yang rapat, serta profil zarah yang stabil. Kemampuan pengulangan hasil proses juga sangat baik, iaitu dalam lingkungan 1% perubahan setelah ribuan kitaran. Sistem ini juga mampu mengekalkan nilai tetapan suhu dengan respons yang cepat, sekaligus memastikan dimensi-dimensi penting tetap stabil.

Pemindahan on Smart Infrared Heating Systems

Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer

Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer