Pengeringan on Smart Infrared Heating Systems

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 19 Jul 2026 07:51:27 +0800

Ketika anda memproses wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan menggunakan bahan kimia, anda sebenarnya berada dalam situasi yang sangat berbahaya. Anda memerlukan haba yang tinggi untuk menyelesaikan tugas tersebut, tetapi proses ini dilakukan di dekat bahan-bahan yang mudah terbakar. Sebarang kesilapan boleh menyebabkan masalah serius.

Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah gelombang pendek. Lampu ini menghasilkan haba yang kuat dan cepat, sehingga cecair tersebut dapat dikeringkan sebelum substrat tersebut sempat menjadi terlalu panas.

Menghadapi bahaya Kebimbangan utama dalam proses pembersihan menggunakan bahan kimia ialah risiko kebakaran. Kami tidak hanya bergantung pada peralatan yang dianggap “selamat” sahaja – kami juga membina lapisan pelindung khas untuk melindungi peralatan tersebut daripada bahan-bahan yang mudah terbakar. Lampu inframerah diletakkan di dalam tiub kuarsa atau safir yang tertutup rapat. Ini membantu menjauhkan wap-wap yang mudah terbakar daripada filamen tungsten yang panas. Kami juga menggunakan resin yang tahan terhadap bahan kimia untuk melindungi wayar-wayar tersebut. Semua ini dilakukan untuk memastikan tiada celah yang boleh dimanfaatkan oleh gas-gas berbahaya.

Unsur pemanas untuk ketuhar pengering wafer

Wed, 08 Jul 2026 04:54:54 +0800

Pengenalan
Kami mencipta elemen pemanasan inframerah ini atas satu sebab sahaja: untuk memberikan pengganti yang berkualiti tinggi kepada unit asal yang digunakan dalam ketuhar pengeringan wafer semikonduktor. Jika anda bosan membayar harga yang mahal untuk peralatan import, dan hanya ingin mendapatkan penyelesaian yang setara dari segi prestasi, inilah jawapannya. Elemen ini direka khusus untuk menghasilkan haba yang diperlukan untuk proses pengeringan yang cepat dan tepat, tanpa perlu membayar harga yang tinggi.

Butiran Teknikal
Spesifikasi elemen ini bukanlah sesuatu yang dipilih secara rawak. Kami memilih reka bentuk berkelajuan tinggi, dengan voltan sekitar 400V. Reka bentuk ini membolehkan pengeluaran tenaga yang tinggi dalam ruang yang lebih kecil. Dengan itu, anda akan mendapat tenaga haba yang diperlukan, namun dalam saiz yang sesuai untuk dipasang pada ketuhar sedia ada. Kuasa dan panjang elemen ini disesuaikan dengan profil haba yang diperlukan semasa proses pengeringan wafer. Ini bermakna suhu di dalam ketuhar akan mencapai tahap yang ditetapkan dengan cepat, dan kekal di situ. Oleh kerana ia merupakan pengganti langsung, anda tidak perlu risau tentang masalah reka bentuk semula sistem ketuhar anda.

Lampu pengering katalis sel bahan api

Sun, 31 May 2026 02:16:14 +0800

On the line, drift isn’t an option.
Bajet terma wafer melalui litografi dan pemprosesan photoresist diukur dalam saat dan darjah. Lapisan pemangkin pada tumpukan sel bahan api juga tidak boleh dipandang ringan—nipis, sensitif, dan tidak boleh menerima pengeringan yang tidak sekata. Apabila lampu tidak berfungsi dengan baik, anda akan tahu dengan segera: edge bead, lekatan yang kurang baik, pembawaan pelarut, dan zarah yang menjadi kecacatan selepas proses develop. Dalam persekitaran pembuatan berkapasiti tinggi, itu bermakna kerugian bahan, kerja semula, dan waktu henti tidak dirancang.