Sensor on Smart Infrared Heating Systems

Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer

Mon, 20 Jul 2026 08:58:08 +0800

Hentikan “hujan kaca”: Jaga kebersihan wafer ketika lampu rosak
Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah kecil. Ia merupakan bencana sebenar. Apabila tiub inframerah pecah akibat beban yang berlebihan, bukan sahaja proses pengeluaran terhenti, malah serpihan kaca dan gas halogen akan tersebar di permukaan wafer tersebut.

Kami mencipta lampu inframerah khusus untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku.

Mengelakkan kekacauan
Kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi. Kuarsa ini sangat tahan lama, dan ia mampu menahan tekanan akibat pemanasan dan penyejukan yang cepat. Namun, itu belum cukup. Untuk mengelakkan situasi di mana lampu meletup, kami menambah lapisan pelindung yang tahan pecah. Lapisan ini berfungsi sebagai “jaring keselamatan”. Jika filamen lampu terbakar dan kaca pecah, lapisan pelindung ini akan menahan serpihan kaca tersebut, agar ia tidak jatuh ke atas wafer.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 19 Jul 2026 07:51:27 +0800

Ketika anda memproses wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan menggunakan bahan kimia, anda sebenarnya berada dalam situasi yang sangat berbahaya. Anda memerlukan haba yang tinggi untuk menyelesaikan tugas tersebut, tetapi proses ini dilakukan di dekat bahan-bahan yang mudah terbakar. Sebarang kesilapan boleh menyebabkan masalah serius.

Itulah sebabnya kami menggunakan lampu inframerah gelombang pendek. Lampu ini menghasilkan haba yang kuat dan cepat, sehingga cecair tersebut dapat dikeringkan sebelum substrat tersebut sempat menjadi terlalu panas.

Menghadapi bahaya Kebimbangan utama dalam proses pembersihan menggunakan bahan kimia ialah risiko kebakaran. Kami tidak hanya bergantung pada peralatan yang dianggap “selamat” sahaja – kami juga membina lapisan pelindung khas untuk melindungi peralatan tersebut daripada bahan-bahan yang mudah terbakar. Lampu inframerah diletakkan di dalam tiub kuarsa atau safir yang tertutup rapat. Ini membantu menjauhkan wap-wap yang mudah terbakar daripada filamen tungsten yang panas. Kami juga menggunakan resin yang tahan terhadap bahan kimia untuk melindungi wayar-wayar tersebut. Semua ini dilakukan untuk memastikan tiada celah yang boleh dimanfaatkan oleh gas-gas berbahaya.

Pembungkusan sensor pintar untuk gelombang inframerah

Sat, 18 Jul 2026 01:29:26 +0800

Mendapatkan Data Termal yang Tepat dalam Kilang Pintar

Jika anda merancang untuk membina kilang berteknologi Industry 4.0, anda pasti menyedari bahawa cara lama iaitu hanya meningkatkan suhu sahaja sudah tidak mencukupi lagi. Anda memerlukan sistem yang mampu memberikan maklumat sebenar tentang apa yang sedang berlaku.

Kami menggunakan sistem inframerah yang dilengkapi dengan sensor pintar untuk mengubah haba mentah menjadi data yang boleh digunakan. Ia bukan sekadar untuk memanaskan bahan tersebut, tetapi juga untuk melihat peta termal keseluruhan proses pengeluaran secara masa nyata.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Thu, 16 Jul 2026 01:13:09 +0800

Hentikan pembaziran haba dalam proses penghasilan sensor hidrogen anda

Ketika membuat sensor hidrogen, suhu pada permukaan wafer perlu dikawal dengan tepat. Tidak boleh ada kesilapan. Untuk mencapai ini, kami menggunakan lampu pemanas khas serta reflektor yang dilapisi emas.

Tujuannya sangat mudah: kita mahu setiap watt tenaga yang digunakan sampai ke permukaan wafer, tanpa terbuang begitu sahaja ke udara.

Mengapa emas?

Kebanyakan orang menggunakan reflektor aluminium, tetapi masalahnya ialah reflektor tersebut menyerap dan menyebarkan terlalu banyak tenaga. Kami beralih kepada reflektor yang diperbuat daripada emas tulen, kerana ia sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah. Dengan cara ini, haba tidak akan diserap oleh badan pemanas, sebaliknya akan dipantulkan kembali ke arah wafer. Ini membolehkan suhu di seluruh permukaan wafer menjadi lebih konsisten.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Fri, 03 Jul 2026 02:33:40 +0800

Dalam proses litografi, proses pembakaran bukanlah sekadar langkah pemanasan sahaja; ia merupakan sebahagian daripada proses penghasilan produk tersebut. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan mengubah nilai Tg pada bahan fotoresist. Selain itu, ketidakteraturan suhu semasa proses pembakaran akan menyebabkan masalah seperti ketidakseragaman garis tepi dan lebar garis pada permukaan wafer. Oleh itu, kawalan suhu yang tepat sangat penting, bukan sesuatu yang boleh diharapkan secara rawak.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami menggunakan sensor IR yang tepat untuk memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Ketepatan ini dapat dicapai dalam setiap proses pembakaran, dengan variasi yang tidak melebihi ±0.05°C antara setiap kumpulan wafer yang diproses. Sensor ini juga direka agar sesuai digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dan ia mampu menghasilkan isyarat NIR yang stabil tanpa adanya titik panas.