Verwarmingslamp voor vochtverwijdering uit wafer

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Op de productielijn kan vocht dat zich in de fotoresistent of op het oppervlak van de wafer bevindt, de benodigde precisiedimensies na de belichting beschadigen. Als je dit vocht niet verwijderd, ontstaan er oneffenheden en restanten die hele partijen producten onbruikbaar kunnen maken. Daarom maken we gebruik van een lamp die het vocht van de wafer verwijdert: deze lamp zorgt ervoor dat er geen variaties meer zijn door het vochtige oppervlak van de wafer.

Wat belangrijk is onder de motorkap We hebben deze lamp ontworpen met een snelle en nauwkeurige thermische reactie in gedachten. De halogeencomponenten zorgen voor een hoge intensiteit en kortegolflengte, zodat het oppervlak snel wordt opgewarmd. Het kwartsomhulsel zorgt er bovendien voor dat alles schoon en stabiel blijft, zelfs bij continu gebruik. Hierdoor wordt de temperatuur over het actieve gebied van de wafer nauwkeurig geregeld, binnen een marge van ±0,1°C. Dit maakt het mogelijk om de processen Soft Bake en Hard Bake nauwkeurig te herhalen. De temperatuurregeling is voldoende precies om de fotoresistent te beschermen tegen te hoge temperaturen. De uitgangsintensiteit is ook precies ingesteld, zodat het vocht snel kan worden verwijderd zonder dat de temperatuur te hoog wordt.

Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafers

Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800

Op het werkvlak komt de wafer uit het reinigingsproces tevoorschijn en begint de tijd te lopen. Eventuele restanten van vocht zorgen voor problemen zoals ongelijkmatige bedekking van de fotoresist of zelfs onbruikbare resultaten. Er is dus een droogmakingssch步 nodig die het water snel wegneemt – zonder dat dit schadelijk is voor de thermische eigenschappen van de wafer of dat er vuildeeltjes vrijkomen.

Verwijdering on Smart Infrared Heating Systems

Verwarmingslamp voor vochtverwijdering uit wafer

Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafers