Wafer on Smart Infrared Heating Systems

Verwarmings element van droogoven voor wijzen

Wed, 08 Jul 2026 04:54:54 +0800

Inleiding
We hebben dit infraroodverwarmingselement ontworpen om één simpele reden: om u een directe, hoogwaardige vervanging te bieden voor de originele onderdelen die worden gebruikt in ovens voor het drogen van halfgeleiderchips.
Als u het zat bent om veel geld uit te geven aan internationale apparatuur en gewoon een oplossing wilt die dezelfde kwaliteit levert, dan is dit het antwoord. Het element is ontworpen om de benodigde warmte te leveren voor een precieze en snelle droogingsprocedure – zonder de hoge prijs.

Precisie IR sensor voor wafer

Fri, 03 Jul 2026 02:33:40 +0800

Op de lithografieafdeling is het ‘bake-proces’ geen soort opwarmingsproces; het is juist het eigenlijke proces waarbij de fotoresist wordt verwerkt. Een verschil van 2°C tijdens het zachte bakken kan leiden tot een verandering in de Tg-waarde van de fotoresist. Bovendien kan ongelijkmatigheid tijdens het harde bakken leiden tot problemen als oneffenheden aan de randen en afwijkingen in de dikte van de lijnen. Je hebt dus temperatuurcontrole nodig die betrouwbaar is, en niet zoiets waar je maar op moet hopen.

Verwarmingslamp voor vochtverwijdering uit wafer

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Op de productielijn kan vocht dat zich in de fotoresistent of op het oppervlak van de wafer bevindt, de benodigde precisiedimensies na de belichting beschadigen. Als je dit vocht niet verwijderd, ontstaan er oneffenheden en restanten die hele partijen producten onbruikbaar kunnen maken. Daarom maken we gebruik van een lamp die het vocht van de wafer verwijdert: deze lamp zorgt ervoor dat er geen variaties meer zijn door het vochtige oppervlak van de wafer.

Wat belangrijk is onder de motorkap We hebben deze lamp ontworpen met een snelle en nauwkeurige thermische reactie in gedachten. De halogeencomponenten zorgen voor een hoge intensiteit en kortegolflengte, zodat het oppervlak snel wordt opgewarmd. Het kwartsomhulsel zorgt er bovendien voor dat alles schoon en stabiel blijft, zelfs bij continu gebruik. Hierdoor wordt de temperatuur over het actieve gebied van de wafer nauwkeurig geregeld, binnen een marge van ±0,1°C. Dit maakt het mogelijk om de processen Soft Bake en Hard Bake nauwkeurig te herhalen. De temperatuurregeling is voldoende precies om de fotoresistent te beschermen tegen te hoge temperaturen. De uitgangsintensiteit is ook precies ingesteld, zodat het vocht snel kan worden verwijderd zonder dat de temperatuur te hoog wordt.

SK15 infraroodlamp voor waferoven

Tue, 09 Jun 2026 00:42:53 +0800

Out on the fab floor, je weet hoe het gaat: een drift van 0,3°C tijdens de photoresist bake is genoeg om een hele batch af te keuren. De SK15 infraroodlamp voor wafer ovens is ontworpen om die drift bij de bron te stoppen. Hij richt zich rechtstreeks op het thermische budget, waardoor soft bake- en hard bake-profielen behouden blijven en kritische afmetingen onder controle blijven.

Wat technisch van belang is
De SK15 maakt gebruik van kortgolvige NIR, waardoor snelle, volumetrische verwarming met lage thermische traagheid wordt gerealiseerd. Over het waferoppervlak blijft de uniformiteit ±0,1°C, en de reproduceerbaarheid is schot-voor-schot. De emitter blijft schoon—geen deeltjesvorming, geen uitgassing—waardoor voldaan wordt aan de vereisten van cleanroom klasse 1–100. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur met minder dan 5% vermogensverlies, en de lampvoet is compatibel met standaard ovenpoorten met een bevestiging die veilig en reproduceerbaar is.