Gdy suszymy płytki czujników MEMS po procesie chemicznego czyszczenia, musimy zachować dużą ostrożność. Potrzebna jest duża ilość ciepła, aby doprowadzić proces do końca, ale robimy to tuż obok lotnych rozpuszczalników. Jeden błąd może spowodować poważne problemy.
Dlatego używamy lamp o krótkiej długości fali w zakresie podczerwieni. One dostarczają intensywne ciepło, które szybko wysusza ciecz, zanim reszta substratu zdąży się przegrzać.
Radzenie sobie z zagrożeniami
Oczywiście największym problemem w urządzeniach do chemicznego czyszczenia jest pożar. Nie polegamy tylko na tym, że sprzęt będzie „bezpieczny” – budujemy dodatkowe zabezpieczenia. Lampy IR umieszczamy w hermetycznych tubach z kwarcu lub szafiru. To jak rodzaj osłony, która chroni te lotne opary przed gorącym żarnem wolframowym. Nawet okablowanie jest zabezpieczone specjalnymi, odpornymi na chemikalia żywicami. Chodzi o to, by zamknąć każdą możliwą dziurę, przez którą mogliby dostać się gazy.
Ciepło i przepływ powietrza
Te grzejniki są zaprojektowane tak, aby utrzymywać określoną temperaturę. Krótkofalowa podczerwień sprawia, że ciecz natychmiast zamienia się w parę. To potężne narzędzie. Ale istnieje jeden problem: potrzebny jest efektywny system wentylacji. Jeśli przepływ powietrza jest słaby, parujące chemikalia pozostają wewnątrz obudowy grzejnika. Tego nie możemy dopuścić.
Utrzymanie sprzętu w dobrym stanie
Nikt nie chce spędzać popołudnia na naprawianiu komory suszącej tylko dlatego, że któraś żarówka się wypaliła. Stworzyliśmy te urządzenia w formie modułowej, z standardowymi konektorami – dzięki temu wymiana zużytej żarówki jest szybka i prosta. Używamy również wzmacnionego kwarcu, który toleruje nagłe zmiany temperatury bez pęknięć. Upewnijcie się też, że źródło zasilania jest dobrze filtrowane. Nagłe skoki napięcia mogą szybko uszkodzić żarnik, a to jest problem, którego nikt nie chce mieć.