Lâmpada para forno de litografia de semicondutores

Thu, 25 Jun 2026 00:58:52 +0800

Na linha de produção, uma variação de 0,5°C na temperatura de cura do fotoresist pode causar mudanças no espessura das linhas de impressão, em termos de nanômetros – e é assim que muitos produtos acabam sendo descartados. Por isso, desenvolvemos nossa lâmpada para litografia pensando nessa realidade, utilizando luzes de comprimento de onda curto no espectro infravermelho, o que permite um aquecimento rápido e direto, mantendo as condições térmicas necessárias estáveis.

O que é importante, do ponto de vista técnico
A lâmpada funciona na faixa do infravermelho próximo, permitindo que o fotoresist absorva o calor de forma eficiente. O tempo de aquecimento diminui, mas o substrato permanece protegido contra altas temperaturas. A uniformidade ao longo da placa fica entre ±0,1°C, e a repetibilidade é mantida graças à medição precisa da temperatura no próprio ponto de processo. A compatibilidade com salas limpas também é importante: materiais compatíveis com classificação 1–100, ausência de emissão de gases e um design que evita a entrada de partículas garantem que os parâmetros estejam dentro dos limites desejados. O sistema opera 24/7, com intervalos de manutenção previsíveis, evitando assim interrupções indesejadas no processo.

Litografia on Smart Infrared Heating Systems

Lâmpada para forno de litografia de semicondutores