Lâmpada de aquecimento para remoção de umidade em wafers

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

Na linha de produção, a umidade acumulada – seja no fotoresistente ou diretamente na superfície da wafer – pode estragar as dimensões críticas do produto após a exposição. Se essa umidade não for removida, isso resultará em defeitos na superfície da wafer, o que pode comprometer toda a produção. É por isso que utilizamos lâmpadas de aquecimento para remover a umidade da wafer: elas eliminam as variações causadas pela umidade presente na superfície da wafer.

Lâmpada de remoção de umidade em wafers

Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800

Na linha de produção, a wafer sai da etapa de enxágue e o cronômetro começa a contar. Qualquer umidade remanescente resulta em problemas como formação de “bridges” no filme fotossensível, ou em reduções na qualidade do produto que são inviáveis. É necessário um processo de secagem rápido, sem causar danos ao filme fotossensível ou adicionar partículas indesejadas.

O que é importante em termos técnicos
Construímos nossa lâmpada de remoção de umidade com base em radiação infravermelha de onda curta, envolvida em um invólucro de quartzo. A geometria do refletor faz com que o calor atinja diretamente o filme fotossensível, e não o suporte em que ele está fixado. Isso garante uma uniformidade térmica de ±0,1°C na área iluminada, mantendo a temperatura do filme fotossensível dentro dos limites estabelecidos durante os processos de secagem. A compatibilidade com ambientes limpos também é garantida pelo uso de hardware com baixo nível de emissão de gases, juntas seladas e um perfil de partículas estável. A repetibilidade do desempenho fica dentro de 1% após milhares de ciclos, e o sistema consegue manter as dimensões críticas estáveis, com resposta em milissegundos.

Umidade on Smart Infrared Heating Systems

Lâmpada de aquecimento para remoção de umidade em wafers

Lâmpada de remoção de umidade em wafers