При сушке пластин с датчиками MEMS после химической очистки необходимо быть очень осторожным. Для эффективной сушки требуется высокая температура, но при этом устройство находится рядом с легковоспламеняющимися растворителями. Одна неверная действие может привести к серьезным проблемам.
Поэтому мы используем лампы с коротковолновым инфракрасным излучением. Они обеспечивают быстрое и мощное нагревание пластин, что позволяет быстро выпарить жидкости, прежде чем остальная часть подложки успеет перегреться.
Борьба с опасностями
Основной риск в процессе химической очистки — это возникновение пожара. Мы не можем полагаться только на безопасность оборудования; поэтому мы используем специальные защитные конструкции. Лампы размещаются в герметичных кварцевых или сапфировых трубках. Это своего рода защитный слой, который не позволяет легковоспламеняющимся парам приближаться к горячим нитям вольфрама. Кроме того, провода также герметизируются с помощью прочных, химически стойких смол. Все это делается для того, чтобы закрыть любые возможные щели, через которые могли бы проникнуть газы.
Температура и поток воздуха
Эти нагреватели предназначены для создания определенного диапазона температур. Коротковолновое инфракрасное излучение мгновенно превращает жидкости в пары. Но здесь есть один нюанс: необходима эффективная система вентиляции. Если поток воздуха слабый, испарения останутся вокруг нагревателя. Этого допускать нельзя.
Обеспечение стабильной работы
Никто не хочет тратить время на ремонт сушильной камеры из-за поломки лампы. Мы сделали эти устройства модульными, с использованием стандартных разъемов, что позволяет быстро заменить поврежденную лампу. Также мы используем усиленный кварц — он выдерживает резкие изменения температур без повреждений. Обязательно используйте фильтры на источнике питания. Резкие скачки напряжения могут быстро повредить нить вольфрама, а это серьезная проблема.