Вафля on Smart Infrared Heating Systems

Точный инфракрасный датчик для пластин

Fri, 03 Jul 2026 02:33:40 +0800

На этапе литографии процедура выпечки не является просто способом разогрева пластины – это сам процесс обработки. Изменение температуры на 2°C во время мягкой выпечки может изменить значение Tg фоторезиста; кроме того, неравномерность температуры во время жесткой выпечки приводит к возникновению недостатков в виде избыточной толщины слоя фоторезиста и изменения ширины линий на пластине. Необходим контроль температуры, на котором можно полагаться, а не такой, который основан на удаче.

Что действительно важно с технической точки зрения: Мы используем высокоточный инфракрасный датчик, который обеспечивает стабильную температуру на поверхности пластины в пределах ±0,1°C. Повторяемость результатов остается в пределах ±0,05°C от партии к партии. Датчик предназначен для использования в чистых помещениях класса 1–100 и не создает никаких частиц. Кварцевый/галогеновый источник света обеспечивает стабильный и повторяемый сигнал в инфракрасном диапазоне без возникновения «горячих точек». Система позволяет контролировать температуру при выпечке фоторезиста в диапазоне от 90°C до 250°C. Система рассчитана на круглосуточную работу без перерывов.

Лампа для удаления влаги с ваферов

Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800

На производственном этаже застрявшая влага — будь то в фоторезисте или прямо на поверхности пластины — может испортить критически важные размеры деталей после обработки. Если не устранить эту влагу, это приведет к появлению на поверхности пластины осадков и остатков химикатов, что может сделать невозможным использование всей партии пластин. Поэтому мы используем специальные лампы для удаления влаги с поверхности пластин: они устраняют нестабильность, возникающую из-за наличия влаги на поверхности пластины.

Что важно при работе лампы
Мы разработали эту лампу с учетом требований к быстрой и точной термической реакции. Галогенные элементы обеспечивают высокую интенсивность излучения в коротких волнах, что позволяет быстро нагреть поверхность пластины. Кварцевый корпус сохраняет стабильность условий окружающей среды, даже при непрерывной работе лампы. В результате достигается термическая однородность на поверхности пластины в пределах ±0,1°C в активной зоне, что позволяет точно контролировать процесс обработки. Контроль температуры находится на высоком уровне, что позволяет защитить фоторезист от повреждений. Интенсивность излучения настроена таким образом, чтобы быстро удалить влагу, без чрезмерного нагрева.

Завод по производству нагревателей для промышленных пластин

Wed, 24 Jun 2026 00:39:36 +0800

На производственной площадке даже небольшое изменение температуры при высушивании пластинки — всего в полградуса — может привести к тому, что химический слой, используемый для печати, перестанет соответствовать требованиям и будет выброшен как брак. Процессы мягкого и жесткого высушивания, а также сушка самой пластинки — это не просто термические процедуры; они напрямую влияют на качество изделия, точность формирования контурных линий и количество дефектов. Если нагреватель перестает работать корректно, это приводит к необходимости повторной обработки продукции, потере материалов и снижению производительности.

Лампа для удаления влаги с ваферов

Fri, 19 Jun 2026 01:48:15 +0800

На производственной линии пластинка выходит из устройства для промывки, и начинается процесс сушки. Любой оставшийся влаги приводит к появлению нежелательных эффектов в виде наличия капель воды на поверхности пленки, образования мостиков между частицами пленки или снижения качества готового продукта. Необходим этап быстрой сушки без значительного расхода энергии и без образования дополнительных частиц.

Что важно при работе устройства
Мы разработали устройство для удаления влаги, используя коротковолновое инфракрасное излучение в кварцевом корпусе. Геометрия отражателя позволяет направлять тепло на саму пленку, а не на её подложку. Это обеспечивает точность температуры в пределах ±0,1°C на всей обрабатываемой поверхности. Таким образом температура фоторезиста остается в пределах допустимых значений во время процессов сушки. Устройство соответствует стандартам чистых комнат: используется оборудование с минимальным уровнем выделения газов, все соединения закрыты, а количество частиц в воздухе остается на стабильном уровне. Повторяемость результатов работы устройства составляет менее 1% за тысячи циклов. Система может быстро реагировать на изменения параметров, что позволяет сохранять стабильность критических размеров.

ИК лампа SK15 для печи дисков

Tue, 09 Jun 2026 00:42:53 +0800

На производственном участке всё знакомо: смещение температуры на 0,3°C во время отжига фоторезиста достаточно, чтобы забраковать всю партию. Инфракрасная лампа SK15 для печей обработки подложек создана для того, чтобы предотвратить это смещение в самом начале. Она напрямую воздействует на тепловой бюджет, обеспечивая стабильность профилей мягкого и жёсткого отжига, а также контроль критических размеров.

Технические характеристики

SK15 использует коротковолновое ближнее ИК-излучение (NIR), что обеспечивает быстрый объёмный нагрев с низкой тепловой инерцией. По поверхности подложки равномерность поддерживается в пределах ±0,1°C, а повторяемость — от импульса к импульсу. Излучатель остаётся чистым — отсутствует генерация частиц и выделение газов — что позволяет соответствовать ограничениям чистого помещения класса 1–100. Выходная мощность остаётся стабильной более 5 000 часов с падением менее 5%. Размеры лампы соответствуют стандартным портам печи, а крепление обеспечивает надёжность и повторяемость установки.

Быстросохнущий вафельный после ополаскивания лампы

Fri, 05 Jun 2026 01:03:31 +0800

На 300-мм линии наличие влажной подложки является остановкой линии. Остаточная влага приводит к полосам, частицам и потерям выхода еще до того, как вы дойдете до литографии. Мы разработали модуль быстрого высушивания сразу после промывки, чтобы превратить передачу от промывки к сушке в контролируемый термический этап, а не в игру на удачу.
Что важно под капотом
Мы используем коротковолновое и средневолновое инфракрасное излучение в кварцево-галогеновом исполнении, быстро передавая энергию и поддерживая узкий спектр, чтобы не рисковать экспозицией фоторезиста. Однородность температуры по всей подложке остается в пределах ±0.1°C, а повторяемость между сменами составляет ±0.2°C. Модуль лампы готов для чистых помещений класса 1–100, с нулевым уровнем генерации частиц, проверенным на уровне инструмента. Выход остается стабильным в пределах 1% на протяжении более 5,000 часов, что позволяет работать круглосуточно и планировать техобслуживание без неожиданностей.
Почему он прилипает к полу
Сразу после промывки подложка попадает в определенное тепловое поле, которое быстро и равномерно испаряет поверхностную воду. В результате вы получаете сухую, без остатков поверхность, готовую к мягкому или жесткому обжигу — без термического превышения. Вы сокращаете переход от влажного к сухому, уменьшаете количество дефектов переноса и ужесточаете контроль критических размеров, защищая тепловой бюджет фоторезиста. Импульсное управление и быстрое разогревание снижают нерабочую мощность без потери производительности.
Что вам нужно правильно настроить
Установка сводится к совпадению площади лампы с манипулятором в конце конвейера и выравниванию профиля луча с исключением края подложки. Настройте модуль на химию растворителя и температуру промывки, чтобы избежать дифференциального испарения. Проведите короткую проверочную партию, чтобы настроить время выдержки и интенсивность, и держите процесс в пределах теплового окна фоторезиста.