<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Влажность on Smart Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://smart-ir-heater.com/ru/tags/%D0%B2%D0%BB%D0%B0%D0%B6%D0%BD%D0%BE%D1%81%D1%82%D1%8C/</link>
		<description>Recent content in Влажность on Smart Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://smart-ir-heater.com/ru/tags/%D0%B2%D0%BB%D0%B0%D0%B6%D0%BD%D0%BE%D1%81%D1%82%D1%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для удаления влаги с ваферов</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/ru/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 02:31:28 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/ru/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Лампа для удаления влаги с ваферов&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном этаже застрявшая влага — будь то в фоторезисте или прямо на поверхности пластины — может испортить критически важные размеры деталей после обработки. Если не устранить эту влагу, это приведет к появлению на поверхности пластины осадков и остатков химикатов, что может сделать невозможным использование всей партии пластин. Поэтому мы используем специальные лампы для удаления влаги с поверхности пластин: они устраняют нестабильность, возникающую из-за наличия влаги на поверхности пластины.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что важно при работе лампы&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы разработали эту лампу с учетом требований к быстрой и точной термической реакции. Галогенные элементы обеспечивают высокую интенсивность излучения в коротких волнах, что позволяет быстро нагреть поверхность пластины. Кварцевый корпус сохраняет стабильность условий окружающей среды, даже при непрерывной работе лампы. В результате достигается термическая однородность на поверхности пластины в пределах ±0,1°C в активной зоне, что позволяет точно контролировать процесс обработки. Контроль температуры находится на высоком уровне, что позволяет защитить фоторезист от повреждений. Интенсивность излучения настроена таким образом, чтобы быстро удалить влагу, без чрезмерного нагрева.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
