Элемент нагрева для оксидации ваферов

Sun, 05 Jul 2026 04:53:10 +0800

Почему значима даже незначительная разница в температуре в 0,1°C при окислении пластин
Окисление пластин – это процесс, при котором нельзя экономить на параметрах. Температура должна быть одинаковой по всей площади камеры. Если нагревательный элемент не может поддерживать температуру с точностью до 0,1°C, это приводит к неравномерной толщине оксида и снижению качества продукции.

Именно поэтому мы разработали галогенные нагревательные элементы, способные обеспечить такую высокую степень точности. Благодаря этому достигается отличная тепловая эффективность, при этом цена остается доступной. Это надежное решение, разработанное специально для выполнения поставленных задач.

Окисление on Smart Infrared Heating Systems

Элемент нагрева для оксидации ваферов