<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Поддержка on Smart Infrared Heating Systems</title>
		<link>http://smart-ir-heater.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%B4%D0%B4%D0%B5%D1%80%D0%B6%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Поддержка on Smart Infrared Heating Systems</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 01:04:53 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://smart-ir-heater.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%B4%D0%B4%D0%B5%D1%80%D0%B6%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Керамический каркас для инфракрасной лампы</title>
				<link>http://smart-ir-heater.com/ru/posts/molybdenum-support-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:04:53 +0800</pubDate>
				<guid>http://smart-ir-heater.com/ru/posts/molybdenum-support-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://smart-ir-heater.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Керамический каркас для инфракрасной лампы&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии производства с длиной волны 300 мм процесс высушивания фоторезиста требует тщательного управления температурой – иначе можно потратить все ресурсы впустую. Недостаточная однородность температуры приводит к изменениям ширины линий на поверхности пластины. Если процесс нарушается из-за выделения газов или образования частиц, придется проводить дорогостоящую переработку продукции. Необходим источник тепла, способный поддерживать стабильную температуру при каждом цикле обработки, не создавая проблем с условиями в чистой комнате.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение внутри устройства&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы используем инфракрасные лампы с молибденовым нагревателем – высокоэмиссионные молибденовые нити, помещенные в кварцевую оболочку, настроенную для работы в диапазоне коротковолнового инфракрасного излучения. Спектр излучения соответствует спектру поглощения фоторезиста, что позволяет быстро удалять растворители, при этом поверхность подложки остается стабильной.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
