Durulama lambasından sonra hızlı kuruyan wafer

Fri, 05 Jun 2026 01:03:31 +0800

300 mm hattında, ıslak bir wafere sahip olmak hattın durması demektir. Artan nem, litografi aşamasına gelmeden önce çizgiler, parçacıklar ve verim kaybı anlamına gelir. Durulama işleminden hemen sonra hızlı bir kurutma modülü inşa ettik, böylece durulama-kurutma geçişini kontrol edilen bir sıcaklık adımına dönüştürdük, şansa bırakmadık.

Altta yatan önemli noktalar Kısa dalga ve orta dalga kızılötesi kullanıyoruz, enerji hızlı bir şekilde aktarılırken spektrumu dar tutarak fotoresistin maruz kalma riskini en aza indiriyoruz. Wafer üzerindeki sıcaklık uniformluğu ±0.1°C içinde kalır ve kaydırma kaydırma tekrarlanabilirliği ±0.2°C içinde tutulur. Lamba modülü, Class 1–100 için temiz oda hazırdır, alet seviyesinde sıfır parçacık üretimi doğrulanmıştır. Çıkış, 5,000+ saat boyunca %1 içinde stabil kalır, böylece 24/7 çalışabilir ve bakımınızı sürprizler olmadan planlayabilirsiniz. Neden zeminde kalıyor Durulamadan hemen sonra, wafer tanımlı bir termal alana girer, bu alan yüzey suyu hızlı ve eşit bir şekilde buharlaşmasını sağlar. Sonuç olarak, yumuşak pişirme veya sert pişirme için hazır, kalıntı içermeyen bir yüzey elde edersiniz—termal aşırı yüklenme olmadan. Islak-kuru geçiş süresini kısaltır, taşınma kusurlarını azaltır ve fotoresistin termal bütçesini koruyarak kritik boyut kontrolünü sıkılaştırırsınız. Puls kontrol ve hızlı ısınma, performanstan ödün vermeden bekleme gücünü azaltır. Doğru yapmanız gerekenler Kurulum, lamba ayak izinin ray uç efektörü ile eşleştirilmesine ve ışın profilinin wafer kenar hariç tutma ile hizalanmasına dayanır. Modülü, farklı buharlaşmaların önüne geçmek için solvent kimyası ve durulama sıcaklığına göre ayarlayın. Bekleme süresi ve yoğunluğu ayarlamak için kısa bir devreye alma partisi çalıştırın ve süreci fotoresistin termal penceresi içinde tutun.

Plaka on Smart Infrared Heating Systems

Durulama lambasından sonra hızlı kuruyan wafer