فیبرکی سطح پر، فوٹوریزسٹ میں موجود نمی، یا ویفر کی سطح پر موجود نمی، روشنی کے اثرات کے بعد ویفر کی اہم خصوصیات کو تباہ کر دیتی ہے۔ اگر اس نمی کو دور نہ کیا جائے، تو اس سے ویفر پر داغ، گندگی اور دیگر ضمنی مسائل پیدا ہوتے ہیں، جن کی وجہ سے پورے ویفروں کو ضائع کرنا پڑتا ہے۔ اسی لئے ہم ویفر سے نمی خارج کرنے والے ہیٹر کا استعمال کرتے ہیں؛ یہ ہیٹر نم دار ویفروں سے پیدا ہونے والی مشکلات کو دور کرتا ہے۔
اس ہیٹر کی اہم خصوصیات
ہم نے اس ہیٹر کو صاف، تیز رفتار حرارتی ردِعمل کی بنیاد پر تیار کیا ہے۔ ہیلوجن عناصر سے بہت زیادہ شدت والی، مختصر لہروں والی روشنی پیدا ہوتی ہے، جس سے ویفر کی سطح جلد گرم ہو جاتی ہے۔ کوارٹز سے بنا یہ خول، مسلسل استعمال کے باوجود بھی ویفر کو صاف اور مستحکم رکھتا ہے۔ اس کے نتیجے میں ویفر کی سطح پر حرارت کی سطح ±0.1°C کے اندر رہتی ہے، جس سے “سافٹ بیک” اور “ہارڈ بیک” عملوں کے نتائج قابل پیشن گوئی ہوتے ہیں۔ درجہ حرارت کو اتنا مستحکم رکھا جاتا ہے کہ فوٹوریزسٹ کو کوئی نقصان نہ پہنچے، اور روشنی کی شدت ایسی ہوتی ہے کہ ویفر سے نمی جلد خارج ہو جائے۔
لیتھوگرافی کے عمل میں اس ہیٹر کی اہمیت
لیتھوگرافی کے عمل میں، روشنی کے اثرات سے پہلے ویفر کو خشک اور مستحکم ہونا ضروری ہے، اور بعد میں بھی اسے مستحکم حالت میں رکھنا ضروری ہے۔ یہ ہیٹر ویفر کی سطح کو جلد خشک کر دیتا ہے، اور “سافٹ بیک” اور “ہارڈ بیک” عملوں کے دوران درجہ حرارت کو مستحکم رکھتا ہے۔ اس طرح ویفر پر کام کرنے کے دوران کوئی مشکلات پیدا نہیں ہوتیں، اور کلاس 1–100 کے صاف کمروں میں ضروری معیارات برقرار رہتے ہیں۔ اس کے علاوہ، اس ہیٹر کی وجہ سے توانائی کی کھپت بھی کم ہوتی ہے، کیوں کہ یہ جلد ہی درجہ حرارت کو مستحکم کر دیتا ہے۔
عملی تفصیلات
اس ہیٹر کی تنصیب آسان ہے، لیکن پروسیس کے مطابق الائنمنٹ اور فوکل ڈسٹنس کو درست کرنا ضروری ہے۔ روشنی کی شدت فاصلے کے ساتھ بدلتی رہتی ہے، اس لئے ایک بار ہی اسے کیلیبریٹ کر لینا چاہیے۔ مرمت یا ہیٹر کی تبدیلی کے بعد، اسے مستحکم ہونے میں تھوڑا وقت لگتا ہے؛ اس لئے اپنے پروسیس کو اسی وقت کے مطابق منصوبہ بند کریں۔ جب اس ہیٹر کو مناسب طریقے سے استعمال کیا جائے، تو یہ روز بروز مستحکم اور قابل پیشن گوئی نتائج فراہم کرتا ہے۔