Op de lithografieafdeling is het ‘bake-proces’ geen soort opwarmingsproces; het is juist het eigenlijke proces waarbij de fotoresist wordt verwerkt. Een verschil van 2°C tijdens het zachte bakken kan leiden tot een verandering in de Tg-waarde van de fotoresist. Bovendien kan ongelijkmatigheid tijdens het harde bakken leiden tot problemen als oneffenheden aan de randen en afwijkingen in de dikte van de lijnen. Je hebt dus temperatuurcontrole nodig die betrouwbaar is, en niet zoiets waar je maar op moet hopen.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken een precisiesensor die ervoor zorgt dat de temperatuur op het oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C blijft. De herhaalbaarheid ligt dan weer binnen ±0,05°C per batch. De sensorkop is geschikt voor gebruik in een schone omgeving van klasse 1–100, en is zo ontworpen dat er geen deeltjes worden geproduceerd. De kwarts/halogeen-emitter zorgt voor een stabiel en herhaalbaar NIR-signaal – zonder hotspots. Het systeem kan temperaturen van 90°C tot 250°C hanteren, met nauwkeurige controle over de temperatuur. Het systeem kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstanden.
Waarom het werkt in de fabriek: In de praktijk zorgt het zachte bakken ervoor dat de fotoresist elke keer op dezelfde manier wordt verwerkt. Het harde bakken zorgt ervoor dat het proces nauwkeurig verloopt. Hierdoor wordt de kwaliteit van de afbeeldingen verbeterd, omdat de thermische omstandigheden consistent zijn. Je hebt minder batches nodig, er wordt minder afval geproduceerd, en de cyclustijd wordt verkort. Ook het energieverbruik neemt af, omdat het proces is afgestemd op de chemische eigenschappen van de fotoresist, in plaats van op gokwerk.
Wat je echt moet weten: Voor een goede werking moet de geometrie van het bakplaatje en de emissiviteit van het materiaal goed worden afgesteld. We leveren een kalibratiekit en een checklist voor een integratietijd van 30 minuten. Op oudere systemen zal de insteltime iets langer duren, maar zodra alles is afgesteld, kan het proces soepel verlopen. Voor maximale stabiliteit moet het sensorgedeelte vrij zijn van residuen, en moet de zuiverheid regelmatig worden gecontroleerd tijdens preventieve onderhoudsacties.