Op de productielijn kan vocht dat zich in de fotoresistent of op het oppervlak van de wafer bevindt, de benodigde precisiedimensies na de belichting beschadigen. Als je dit vocht niet verwijderd, ontstaan er oneffenheden en restanten die hele partijen producten onbruikbaar kunnen maken. Daarom maken we gebruik van een lamp die het vocht van de wafer verwijdert: deze lamp zorgt ervoor dat er geen variaties meer zijn door het vochtige oppervlak van de wafer.
Wat belangrijk is onder de motorkap We hebben deze lamp ontworpen met een snelle en nauwkeurige thermische reactie in gedachten. De halogeencomponenten zorgen voor een hoge intensiteit en kortegolflengte, zodat het oppervlak snel wordt opgewarmd. Het kwartsomhulsel zorgt er bovendien voor dat alles schoon en stabiel blijft, zelfs bij continu gebruik. Hierdoor wordt de temperatuur over het actieve gebied van de wafer nauwkeurig geregeld, binnen een marge van ±0,1°C. Dit maakt het mogelijk om de processen Soft Bake en Hard Bake nauwkeurig te herhalen. De temperatuurregeling is voldoende precies om de fotoresistent te beschermen tegen te hoge temperaturen. De uitgangsintensiteit is ook precies ingesteld, zodat het vocht snel kan worden verwijderd zonder dat de temperatuur te hoog wordt.
Waarom deze lamp geschikt is voor lithografische processen Bij lithografie moet de wafer droog en stabiel zijn vóór de belichting. Daarna moet de wafer op een consistente manier worden verhit. Deze lamp zorgt er snel voor dat het oppervlak droog wordt, en houdt daarna de gewenste temperatuur vast, zodat er minimale variaties zijn in de temperatuur over de verschillende partijen producten. Hierdoor wordt herwerk nodig verminderd, blijven de concentraties deeltjes binnen de grenzen voor klasse 1–100 schone ruimtes, en kan de temperatuur tijdens het etenproces nauwkeurig worden geregeld. Ook het energieverbruik blijft laag, dankzij de snelle aanpassing van de temperatuur – minder overbodige warmte en minder koelingsvermogen.
De praktische details De installatie is eenvoudig, maar je moet nog steeds de alignering en de focale afstand instellen, zodat ze overeenkomen met de vereisten van het proces. De uitgangsintensiteit verandert met de afstand; daarom moet je de lamp één keer kalibreren en de instellingen vastzetten. Na onderhoud of vervanging van de lamp, duurt het even voordat de lamp optimaal functioneert. Plan je productie daarom rondom dit tijdstip. Als de lamp op de juiste manier wordt geconfigureerd, levert deze stabiele en reproduceerbare resultaten op, dag in dag uit.