Op het werkvlak komt de wafer uit het reinigingsproces tevoorschijn en begint de tijd te lopen. Eventuele restanten van vocht zorgen voor problemen zoals ongelijkmatige bedekking van de fotoresist of zelfs onbruikbare resultaten. Er is dus een droogmakingssch步 nodig die het water snel wegneemt – zonder dat dit schadelijk is voor de thermische eigenschappen van de wafer of dat er vuildeeltjes vrijkomen.
Wat belangrijk is onder het oppervlak
We hebben onze lamp voor het verwijderen van vocht ontworpen met behulp van kortegolflang infraroodlicht, in een kwartsomhulsel. De reflectoren zorgen ervoor dat de warmte op de film terechtkomt, en niet op het dragermateriaal. Hierdoor blijft de temperatuur in de verlichte zone binnen de gewenste grenzen, zodat de temperatuur van de fotoresist tijdens het drogen binnen de specifieke waarden blijft. De compatibiliteit met schone ruimten is geen probleem: het apparaat kan worden gebruikt in klassen 1–100, dankzij apparatuur met lage uitstoot, gesloten verbindingen en een stabiele hoeveelheid vuildeeltjes. De nauwkeurigheid van de uitvoering blijft binnen 1% na duizenden cycli, en het systeem reageert binnen miliseconden op veranderingen, zodat de cruciale dimensies stabiel blijven.
Waarom dit belangrijk is in de lithografie
In lithografische processen verwijdert de lamp het vocht van het oppervlak net voordat de fotoresist wordt aangebracht. Hierdoor worden problemen als ongelijkmatige bedekking van de fotoresist voorkomen. Bovendien zorgt de lamp ervoor dat dezelfde temperatuur op dezelfde plek wordt behouden, run na run. Hierdoor blijven de temperaturen constant. Deze consistentie verkort de tijd die nodig is om het proces te valideren, vermindert het aantal herwerkingen en bespaart energie, omdat de lamp alleen het gewenste gebied verwarmt. De betrouwbaarheid blijkt uit het feit dat de apparaten meer dan 5.000 uur kunnen werken met minder dan 5% daling in de prestaties. De serviceintervallen kunnen langer zijn, zonder dat het risico toeneemt.
Wat je moet controleren
De lamp werkt met standaard SEMI-interfaces, maar bij integratie moet er nog aandacht worden besteed aan de thermische afstand en de route van de uitlaatgassen. Het kwartsomhulsel kan geen mechanische schokken verdragen, dus het moet correct worden behandeld en gemonteerd. Zorg er ook voor dat de stroom- en signaalverbindingen geschikt zijn voor gebruik in een schone ruimte. Controleer bovendien of de gebruikte gassen en chemische stoffen overeenkomen met de vereisten.