製造現場では、フォトレジスト内やウェーハ表面に残った水分が、露光後にウェーハの寸法精度を悪化させてしまいます。その水分を除去しなければ、不良品が生じ、最悪の場合は大量のウェーハが廃棄されてしまいます。だからこそ、ウェーハ内の水分を除去するためのヒーターランプが必要なのです。これにより、湿潤したウェーハによって生じるばらつきを解消できます。
重要なのは内部構造です
このランプは、迅速かつ正確な温度制御を実現するために設計されています。ハロゲン素子により高強度の短波長の光が発生し、ウェーハの表面が素早く加熱されます。また、石英製のケースによって、連続稼働時でも安定した状態が維持されます。その結果、アクティブエリア全体で±0.1℃以内の温度均一性が得られ、ソフトベイクやハードベイクの処理が再現可能になります。温度制御も非常に精密で、フォトレジストの耐熱性を守るとともに、過剰な加熱を防ぎます。
なぜリソグラフィー工程に適しているのか
リソグラフィーでは、露光前にウェーハを乾燥させて安定させる必要があります。また、露光後には一定の条件で加熱処理を行う必要があります。このランプは、ウェーハの表面を素早く乾燥させ、ソフトベイクやハードベイクの際にも、バッチ間の温度変動を最小限に抑えます。このような安定性により、再作業が減少し、クラス1～100の清浄室で求められる粒子数の基準を満たすことができます。また、エッチング処理においても予測可能なCD制御が可能になります。迅速な温度調整により、無駄なエネルギー消費も少なくなります。
実用上の詳細
設置は簡単ですが、プロセスに合わせて位置合わせや焦点距離を調整する必要があります。出力強度は距離によって変わるため、一度校正して固定しておく必要があります。メンテナンスやランプの交換後は、短時間の安定化期間が必要です。適切な設定にすれば、毎日安定して再現性の高い水分除去および加熱処理が行えます。