Trên sàn sản xuất, bạn hiểu cách vận hành: một sai lệch 0,3°C trong quá trình nung photoresist đã đủ để loại bỏ toàn bộ lô hàng. Đèn hồng ngoại SK15 dành cho lò wafer được thiết kế để ngăn chặn sai lệch nhiệt độ ngay từ đầu. Nó tập trung trực tiếp vào ngân sách nhiệt, vì thế các chương trình soft bake và hard bake được duy trì ổn định, đảm bảo kích thước quan trọng ở mức kiểm soát.
Điểm quan trọng về mặt kỹ thuật
SK15 sử dụng bước sóng ngắn NIR, cho phép gia nhiệt nhanh và thể tích với quán tính nhiệt thấp. Trên mặt phẳng wafer, độ đồng đều duy trì ở ±0,1°C và độ lặp lại đo được từng lần bắn. Bộ phát phát sáng giữ sạch sẽ—không sinh bụi, không phát khí—vì vậy thiết bị đáp ứng tiêu chuẩn phòng sạch Class 1–100. Công suất ổn định trong hơn 5.000 giờ hoạt động, suy giảm công suất dưới 5%, và kích thước đèn phù hợp với các cổng chuẩn của lò, kèm theo bộ gá lắp chắc chắn và ổn định.
Lò wafer yêu cầu nhiệt độ lên nhanh, ổn định nhanh, và không để lại dư lượng nhiệt. SK15 duy trì buồng làm việc ở điểm đặt nhiệt mà không vượt quá ngưỡng, giúp rút ngắn thời gian khởi động và ổn định nhiệt. Kết quả là năng suất tăng, số lượng lô phải làm lại giảm và lượng phế phẩm giảm.
Các profile photoresist giữ ổn định xuyên suốt các lô và ca làm việc, hỗ trợ đồng nhất overlay và kích thước quan trọng (CD). Ngoài ra, khi chu trình gia nhiệt nhanh hơn và duy trì ổn định, năng lượng tiêu thụ giảm, giảm chi phí vận hành trên mỗi wafer.
Cần lưu ý một vài điểm. SK15 tương thích với hầu hết các nền tảng lò wafer, nhưng hình học lò, bố trí phản xạ và luồng khí vẫn ảnh hưởng đến độ đồng đều cuối cùng. Cần lên kế hoạch chạy thử nghiệm ngắn để điều chỉnh PID và xác nhận profile nung phù hợp với cấu trúc resist. Bạn sẽ mất thêm thời gian thiết lập ban đầu, sau đó đạt hiệu suất ổn định với bảo trì tối thiểu.