Während des Prozesses kommt die Wafer aus dem Spülvorgang heraus – und die Uhr beginnt zu ticken. Jegliche verbleibende Feuchtigkeit führt dazu, dass der Photoresist ungleichmäßig trocknet oder sogar Brückenbildung auftritt. Das ist etwas, was man auf keinen Fall akzeptieren kann. Man braucht daher einen Schritt, bei dem das Wasser schnell entfernt wird – ohne dass dadurch die thermische Leistung beeinträchtigt wird oder zusätzliche Partikel entstehen.
Was wirklich wichtig ist
Wir haben unsere Trocknungsanlage so konstruiert, dass sie kurzwelliges Infrarotlicht in einem Quarzkörper verwendet. Die Reflexionsgeometrie sorgt dafür, dass die Wärme auf dem Film selbst ankommt, nicht auf dem Trägermaterial. Dadurch bleibt die Temperatur im beleuchteten Bereich innerhalb der zulässigen Grenzen – sowohl während des sanften als auch des intensiven Trocknungsprozesses. Die Kompatibilität mit Reinräumen ist selbstverständlich gegeben: Die Verwendung in Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch Hardware mit geringer Gasemission sowie dicht verschlossene Anschlüsse gewährleistet. Die Reproduzierbarkeit liegt bei weniger als 1 % über Tausenden von Zyklen. Zudem reagiert das System in Millisekunden auf Änderungen, damit die kritischen Abmessungen stabil bleiben.
Warum das in der Lithografie wichtig ist
In den Lithografieanlagen entfernt die Lampe die Oberflächenfeuchtigkeit direkt vor dem Auftragen des Photoresists. Dadurch werden Probleme wie ungleichmäßige Trocknung oder Probleme an den Rändern vermieden. Im Trocknungsprozess sorgt die Lampe dafür, dass die Temperatur an derselben Stelle immer gleich bleibt – unabhängig von der Anzahl der Durchläufe. Diese Konstanz verkürzt die Einarbeitungszeit, reduziert die Notwendigkeit von Nacharbeiten und senkt den Energieverbrauch, da die Lampe nur die betreffende Fläche erwärmt. Die Zuverlässigkeit zeigt sich darin, dass die Geräte mehr als 5.000 Stunden lang funktionieren, ohne dass der Ausstoß um mehr als 5 % abnimmt. Zudem können die Wartungsintervalle verlängert werden, ohne dass Risiken entstehen.
Was man beachten muss
Die Lampe funktioniert mit standardmäßigen SEMI-Schnittstellen – doch bei der Integration müssen auf die thermischen Anforderungen sowie auf die Anordnung der Entlüftungskanäle geachtet werden. Der Quarzkörper verzeiht keine mechanischen Belastungen – daher müssen die Handhabung und Montage gemäß den vorgegebenen Anforderungen erfolgen. Es sollten ausschließlich Strom- und Signalleitungen verwendet werden, die für Reinräume geeignet sind. Zudem muss sichergestellt werden, dass die Prozessgase und die Entlüftungssysteme mit den vorgegebenen Materialien übereinstimmen.