در فرآیند لیتوگرافی، مرحله حرارتدهی، صرفاً یک مرحله آمادهسازی نیست؛ بلکه خود همان فرآیند اصلی است.
تغییر دما در حد ۲ درجه سانتیگراد در مرحله حرارتدهی ملایم، باعث تغییر نقطه ذوب فوتورزیست میشود؛ همچنین، عدم یکنواختی در دما در مرحله حرارتدهی شدید، منجر به اختلافات در اندازه خطوط روی ویفر میشود. شما به کنترل دقیق دما نیاز دارید؛ نه چیزی که بتوانید روی آن حساب نکنید.
آنچه از نظر فنی اهمیت دارد:
ما از سنسورهای IR دقیق بر روی ویفر استفاده میکنیم؛ این سنسورها باعث حفظ یکنواختی دمایی در سطح ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد میشوند؛ همچنین، تکرارپذیری فرآیند نیز در حد ±۰.۰۵ درجه سانتیگراد است. سر سنسور نیز مناسب برای محیطهای پاکسازیشده با کلاس ۱ تا ۱۰۰ است؛ همچنین، این سنسورها طوری طراحی شدهاند که هیچ ذرهای تولید نکنند. منبع تابش کوارتز/هالوژن نیز باعث تولید سیگنالهای قابل اعتماد و یکنواخت میشود؛ بدون وجود نقاط داغ.
این سیستم، فرآیند حرارتدهی فوتورزیست را در محدوده دمایی ۹۰ تا ۲۵۰ درجه سانتیگراد انجام میدهد؛ همچنین، این سیستم برای کار ۲۴/۷، بدون هیچ وقفهای، طراحی شده است.
چرا این روش در کارخانههای لیتوگرافی موفق است؟
در عمل، مرحله حرارتدهی ملایم، فوتورزیست را در هر بار انجام، به یک شکل یکسان آماده میکند؛ در حالی که مرحله حرارتدهی شدید، فرآیند را بدون هیچ اختلالی پیش میبرد. به این ترتیب، کیفیت لیتوگرافی بهبود مییابد؛ زیرا تاریخچه حرارتی یکنواخت است.
شما نیاز به تولید تعداد کمتری از محصولات ندارید؛ همچنین، زمان تولید نیز کاهش مییابد. مصرف انرژی نیز کمتر میشود؛ زیرا فرآیند حرارتدهی بر اساس ویژگیهای شیمیایی فوتورزیست انجام میشود، نه بر اساس حدس و گمان.
آنچه واقعاً باید بدانید:
برای نصب این سیستم، باید ابعاد صفحه حرارتدهی و میزان تابش آن را مطابقت داد؛ ما یک مجموعه کالیبراسیون و یک فهرست بررسی ۳۰ دقیقهای برای این منظور ارائه میدهیم.
در روشهای قدیمی، زمان تنظیمات کمی بیشتر است؛ اما پس از تنظیمات مناسب، فرآیند به خوبی انجام خواهد شد.
برای به دست آوردن بالاترین سطح پایداری، باید سنسور را از هرگونه ذرهای پاک نگه دارید؛ همچنین، باید در زمان نگهداریهای پیشگیرانه، پاکیزگی سنسور را بررسی کنید.