晶圆氧化加热元件

为什么0.1°C这样的微小温差在晶圆氧化过程中如此重要呢？ 晶圆氧化是一种不能马虎处理的工艺。整个反应室内的温度必须保持一致。如果加热元件的温度控制精度无法达到0.1°C，那么晶圆的氧化层厚度就会不均匀，进而影响产品的合格率。 正因如此，我们设计的卤素加热元件能够实现极高的温度控制精度。这样不仅能...