Wenn man MEMS-Sensorwafer nach einer chemischen Reinigung trocknet, befindet man sich auf einem ziemlich schmalen Grat. Man benötigt intensive Hitze, um die Arbeit zu erledigen – doch das geschieht direkt neben brennbaren Lösungsmitteln. Ein falscher Schritt kann zu ernsthaften Problemen führen.
Deshalb verwenden wir Kurzwell-Infrarotlampen. Sie strahlen eine starke Hitze ab, die die Flüssigkeit sofort verdampft, bevor der Rest des Substrats überhaupt überhitzen kann.
Umgehen der Gefahren Die größte Sorge bei der chemischen Reinigung ist natürlich ein Brand. Wir verlassen uns nicht einfach darauf, dass die Ausrüstung „sicher“ ist – stattdessen bauen wir zusätzliche Schutzmaßnahmen ein. Die Infrarotlampen werden in versiegelten Quarz- oder Saphirröhren untergebracht. Das dient als Schutzschale, die die brennbaren Dämpfe von den heißen Wolframfilamenten fernhält. Auch die Verkabelung wird mit widerstandsfähigen, chemikalienbeständigen Harzen versiegelt. Es geht darum, alle möglichen Lücken zu schließen, durch die Gase eindringen könnten.
Hitze und Luftstrom Diese Heizgeräte sind so konzipiert, dass sie eine bestimmte Temperatur erreichen. Das Kurzwell-Infrarot durchdringt die flüssigen Rückstände und verwandelt sie fast sofort in Dampf. Doch es gibt einen Haken: Man braucht ein effektives Entlüftungssystem. Wenn der Luftstrom zu schwach ist, bleiben die verdampften Chemikalien im Heizelement hängen. Das darf nicht passieren.
Stabile Funktionsweise Niemand möchte seinen Nachmittag damit verbringen, eine Trockenkammer auseinanderzunehmen, nur weil eine Glühbirne defekt ist. Wir haben diese Geräte modular gestaltet – mit Standardanschlüssen – sodass das Austauschen einer defekten Lampe schnell und unkompliziert möglich ist. Zudem verwenden wir verstärktes Quarzmaterial. Es kann die schnellen Temperaturschwankungen beim Erwärmen und Abkühlen ohne Risse überstehen. Stellen Sie sicher, dass die Stromversorgung gefiltert ist. Ein plötzlicher Spannungsspitze kann das Filament zerstören – und das ist ein Problem, das niemand haben will.