Mengapa Kita Beralih ke Sistem Pemanasan dengan Gelombang Inframerah Sejujurnya, oven konvensional yang digunakan sejak dulu merupakan cara yang...

Menghasilkan hasil pengeringan yang optimal (tanpa membuang-buang energi) Saat mengeringkan wafer, hal yang paling penting adalah cara kita menangani...

Hentikan “hujan kaca”: Jaga kebersihan wafer saat lampu rusak Di pabrik semikonduktor, kerusakan pada lampu bukanlah masalah sepele. Ini merupakan...

Saat Anda membersihkan wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan kimia, Anda berada di situasi yang sangat berisiko. Anda membutuhkan panas yang...

Pendahuluan Kami membuat elemen pemanas inframerah ini karena satu alasan sederhana saja: untuk memberikan pengganti yang berkualitas tinggi bagi...

Mengapa perbedaan suhu sebesar 0,1°C sangat penting dalam proses oksidasi wafer Proses oksidasi wafer merupakan salah satu proses yang membutuhkan...

Di lini produksi litografi, proses “bake” bukanlah sekadar proses pemanasan saja. Itu merupakan tahap yang penting dalam proses pembuatan chip....

Di lantai pabrik, kelembapan yang tertahan—baik di dalam bahan fotoresist maupun di permukaan wafer itu sendiri—akan merusak dimensi-dimensi penting...

Di lantai pabrik pengolahan wafer, perubahan suhu pembakaran sebesar setengah derajat saja sudah cukup untuk membuat kualitas lapisan fotoresistan...

Di tahap ini, wafer dikeluarkan dari cairan pembersih, dan jam mulai berdetik. Kelembapan yang masih tersisa akan menyebabkan masalah seperti adanya...

Out on the fab floor, Anda tahu bagaimana kejadiannya: drift 0,3°C selama proses pemanggangan photoresist cukup untuk membatalkan seluruh lot. Lampu...

Pada jalur 300mm, wafer basah yang dibiarkan menganggur adalah penghentian jalur. Kelembapan yang tersisa berarti garis, partikel, dan kehilangan...