Di ruang pengeluaran cip, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist boleh menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada permukaan cip sebanyak beberapa nanometer. Itulah sebabnya banyak cip yang terbuang akibat faktor ini. Kami mencipta lampu untuk proses litografi ini dengan menggunakan gelombang inframerah dekat, agar haba dapat disalurkan dengan cepat dan efektif, sehingga langkah-langkah termal yang kritikal dapat dikekalkan dalam keadaan stabil.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Lampu ini beroperasi dalam julat inframerah dekat, jadi bahan fotoresist dapat menyerap haba dengan efisien. Masa yang diperlukan untuk proses pemanasan berkurangan, namun suhu permukaan cip tetap terkawal. Keseragaman suhu pada setiap bahagian cip adalah sekitar ±0.1°C, dan ketepatan proses dapat dipastikan melalui penggunaan alat pengukur suhu yang canggih. Keserasian dengan bilik bersih juga sangat penting: bahan-bahan yang digunakan mematuhi standard kelas 1–100, tiada pelepasan gas, dan reka bentuk sistem yang memastikan tiada zarah debu masuk ke dalam sistem. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan jadual penyelenggaraan yang tetap, supaya tidak ada masa henti yang tidak dirancang.
Mengapa ia berkesan dalam praktik:
Dalam proses pengeringan cip, gelombang inframerah dekat membantu menghilangkan kelembapan pada permukaan cip tanpa merosakkan lapisan pelindungnya. Semasa proses pemanasan, bahan pelarut akan menguap dengan sempurna, sehingga adhesi antara bahan-bahan menjadi lebih baik dan terdapat kurang kotoran. Dalam proses pembakaran bahan fotoresist, suhu dapat dikawal dengan tepat, sehingga kualiti cip dapat dipertahankan dan jumlah cip yang perlu dibuat semula berkurangan. Hasilnya ialah hasil pengeluaran yang konsisten, masa proses yang lebih singkat, serta penggunaan tenaga yang lebih rendah, kerana haba disalurkan tepat ke tempat yang diperlukan.
Apa yang perlu diingat:
Gelombang inframerah dekat memanaskan bahan dengan cepat, jadi keadaan antaramuka termal dan kondisi peralatan sangat penting. Kami menyediakan kit antaramuka termal yang sesuai, dan kami mengesyorkan agar alat pengukur suhu dikalibrasi setiap tiga bulan untuk memastikan ketepatannya. Lampu ini sesuai untuk digunakan pada platform litografi biasa dan fasiliti bilik bersih. Namun, integrasinya memerlukan litar elektrik yang sesuai (208–240 V) serta saluran udara yang efektif. Kestabilan suhu dan aliran udara bergantung pada hal ini. Lakukan ujian awal untuk memastikan keseragaman suhu dan ketepatan proses sesuai dengan jenis bahan fotoresist yang digunakan.