Mengapa Kita Berpindah ke Sistem Pemanasan IR Sejujurnya, ketuhar konvensional yang lama itu sangat menyusahkan. Ia beroperasi dengan perlahan,...

Menghasilkan hasil yang terbaik tanpa membazir tenaga Ketika proses pengeringan wafer berlangsung, segalanya bergantung pada cara kita mengawal suhu...

Hentikan “hujan kaca”: Jaga kebersihan wafer ketika lampu rosak Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, kerosakan pada lampu bukan sekadar masalah...

Ketika anda memproses wafer sensor MEMS setelah proses pembersihan menggunakan bahan kimia, anda sebenarnya berada dalam situasi yang sangat...

Pengenalan Kami mencipta elemen pemanasan inframerah ini atas satu sebab sahaja: untuk memberikan pengganti yang berkualiti tinggi kepada unit asal...

Mengapa perbezaan suhu sebanyak 0.1°C sangat penting dalam proses oksidasi wafer Proses oksidasi wafer merupakan salah satu proses yang memerlukan...

Dalam proses litografi, proses pembakaran bukanlah sekadar langkah pemanasan sahaja; ia merupakan sebahagian daripada proses penghasilan produk...

Di bilik pengeluaran wafer, kelembapan yang terperangkap—sama ada dalam bahan fotoresist atau pada permukaan wafer itu sendiri— akan merosakkan...

Di dalam fasiliti pembuatan ini, perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk menyebabkan kualiti bahan fotorezistan menjadi tidak...

Semasa proses pengeringan, wafer dikeluarkan daripada cecair pembersih, dan masa mula berjalan. Sebarang kelembapan yang masih ada akan menyebabkan...

Di lantai pengilangan, anda sudah maklum bagaimana keadaannya: pergeseran 0.3°C semasa pemanasan photoresist sudah cukup untuk menggugurkan satu lot...

Pada barisan 300mm, wafer basah yang dibiarkan begitu sahaja akan menyebabkan hentian barisan. Kelembapan yang tinggal akan menyebabkan garis hitam,...