Mendapatkan suhu yang tepat dalam fasiliti pengeluaran pintar Jika anda sedang membina fasiliti pengeluaran pintar, anda pasti sudah menyedari bahawa...

Mengapa Lampu IR berbahan serat karbon merupakan pilihan yang tepat untuk proses pembuatan semikonduktor tanpa plumbum Dunia semikonduktor kini...

Hentikan masalah serpihan kaca: Mengapa lampu IR yang tahan air diperlukan dalam proses pencucian Jika anda pernah mengalami keadaan di mana lampu...

Bagaimana untuk menggunakan pemanas inframerah jenis UHP dengan berkesan dalam fasiliti pengeluaran semikonduktor anda Jika anda mengendalikan...

Cara untuk mengelakkan lampu inframerah berlapis emas daripada rosak Dalam dunia pengeluaran semikonduktor, lampu inframerah yang berlapis emas...

Melindungi Lampu Inframerah di Bilik Bersih Anda Di bilik bersih, kita tidak boleh membiarkan sebarang ralat berlaku. Sedikit saja kotoran atau...

Menghasilkan hasil yang terbaik tanpa membazir tenaga Ketika proses pengeringan wafer berlangsung, segalanya bergantung pada cara kita mengawal suhu...

Hentikan pembaziran tenaga haba: Cara yang lebih baik untuk membina biosensor Ketika kita memproses bahan-bahan yang digunakan dalam biosensor, haba...

Menghentikan kebocoran haba pada alat-alat pengeluaran anda Masalah dengan lampu pemanas berkuasa tinggi ialah ia menyebabkan kekacauan. Semasa...

Melindungi Peralatan dengan Lampu IR Tanpa Ozon di Zon Kimia Jika anda menggunakan pemanas inframerah dalam proses pembersihan bahan kimia, anda...

Hentikan serpihan kaca: Pastikan wafer anda tetap bersih apabila lampu rosak Dalam fasiliti pengeluaran yang beroperasi pada beban tinggi, kerosakan...

Kami membina lampu inframerah berreflektor aluminium ini untuk digunakan dalam keadaan sebenar – iaitu dalam persekitaran industri yang memerlukan...

Di bilik pengeluaran wafer, kelembapan yang terperangkap—sama ada dalam bahan fotoresist atau pada permukaan wafer itu sendiri— akan merosakkan...

Dalam proses pembakaran bahan photoresist ini, tahap kejayaan dan masa yang diperlukan untuk menyelesaikan proses tersebut bergantung sepenuhnya pada...

Pada garis pengeluaran 300mm ini, proses pembakaran bahan fotoresist merupakan langkah penting. Anda perlu menggunakan tenaga haba dengan bijak, atau...

Di ruang pengeluaran cip, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist boleh menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada...

Semasa proses pengeringan, wafer dikeluarkan daripada cecair pembersih, dan masa mula berjalan. Sebarang kelembapan yang masih ada akan menyebabkan...

Di lantai pengilangan, anda sudah maklum bagaimana keadaannya: pergeseran 0.3°C semasa pemanasan photoresist sudah cukup untuk menggugurkan satu lot...

Out on the line, flip chip bonding adalah satu proses yang sangat sensitif apabila profil terma mula beralih. Satu titik panas, dan anda boleh...

Pada barisan 300mm, wafer basah yang dibiarkan begitu sahaja akan menyebabkan hentian barisan. Kelembapan yang tinggal akan menyebabkan garis hitam,...

On the line, drift isn’t an option. Bajet terma wafer melalui litografi dan pemprosesan photoresist diukur dalam saat dan darjah. Lapisan pemangkin...